반도체 연마 패드 시장 - 예측(2026-2031년)
Semiconductor Polishing Pads Market - Forecast from 2026 to 2031
상품코드 : 1918045
리서치사 : Knowledge Sourcing Intelligence
발행일 : 2026년 01월
페이지 정보 : 영문 144 Pages
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한글목차

반도체 연마 패드 시장은 CAGR 5.04%로 성장하며, 2025년 9억 9,179만 5,000달러에서 2031년에는 13억 3,244만 5,000달러에 달할 것으로 예측됩니다.

반도체 연마 패드는 화학적 기계적 평탄화(CMP) 공정에서 매우 중요한 소모품이며, 이 공정은 유전체층, 금속층, 장벽층 전체에 원자 수준의 평탄도를 제공합니다. 패드의 성능은 FEOL(Front End of Line) 및 첨단 패키징의 CMP 공정에서 제거율, 웨이퍼내 균일성, 결함률 및 총 소유 비용에 직접적인 영향을 미칩니다. 이 시장은 웨이퍼 스타트, 게이트 올 어라운드, 백사이드 파워, 칩렛 통합, 헤테로지니어링 패키징에 의해 주도되는 노드당 CMP 강도 증가와 밀접한 관련이 있습니다.

핵심 성장 요인

1. 끊임없는 소자 미세화 및 첨단 패키징: 팬아웃 및 2.5D/3D 패키징의 배선 피치 축소, 저유전율 절연체의 박막화, 다층 재분배층(RDL)은 더 미세한 다공성, 높은 전단 안정성, 긴 수명의 패드를 요구합니다. 하이브리드 본딩과 서브미크론 범프 평탄화는 웨이퍼 당 패드 소비량을 더욱 증가시킵니다.

2. 차량용 반도체 확대: 존 아키텍처 차량, 800V EV 파워트레인, 레벨3+ADAS 플랫폼으로의 전환으로 차량당 반도체 탑재량은 지속적으로 증가하고 있습니다. 자동차 등급의 신뢰성 요구는 CMP 공정의 장기화와 더 엄격한 결함 목표에 대한 요구로 이어져 고품질 패드 배합에 대한 수요를 지속시키고 있습니다.

3. 소비자용 전자기기 생산량: 스마트폰, 태블릿, 고대역폭 메모리(HBM)용 대용량 로직, DRAM, NAND 생산은 전 공정 노드가 성숙해도 패드 소비량 기본 수준을 유지합니다.

주요 억제요인

주요 상용 플랫폼

지역별 동향

아시아태평양은 생산과 소비량면에서 계속 선두를 달리고 있으며, 전 세계 패드 총량의 대부분을 차지하고 있습니다. 중국의 성숙한 노드 및 파워 디바이스 생산 능력의 대폭적인 확대와 인도의 국내 전자 생태계가 가속화되면서 이 지역에서의 리더십이 강화되고 있습니다. 대만, 한국, 일본에서는 최첨단 로직, 메모리, 패키징 수요가 중심이며, 차세대 패드 구조가 프리미엄 가격을 실현하고 있습니다.

북미와 유럽은 미국 소재 IDM의 300mm 자동차 및 아날로그 생산능력 확대와 유럽의 전력반도체 투자를 중심으로 완만하지만 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 주요 패드 혁신 기업(듀폰, 3M)의 현지 거점을 배경으로 첨단 노드 및 패키징 플랫폼에 대한 빠른 인증 주기를 실현하고 있습니다.

반도체 연마 패드 시장은 웨이퍼 당 CMP 공정 수의 구조적 증가와 첨단 패키징의 보급으로 인해 견고한 상승세를 유지하고 있습니다. 10nm 이하 노드에서 더 긴 패드 수명, 더 낮은 결함률, 하이브리드 본딩 및 고토폴로지 RDL 용도에서 일관된 성능을 제공하는 공급업체는 소모품 집약적인 제조 환경에서 상대적으로 더 큰 가치를 얻을 수 있습니다.

이 보고서의 주요 장점:

어떤 용도로 사용되는가?

산업 및 시장 인사이트, 사업 기회 평가, 제품 수요 예측, 시장 진출 전략, 지역적 확장, 설비 투자 결정, 규제 프레임워크와 영향, 신제품 개발, 경쟁의 영향

분석 범위

목차

제1장 개요

제2장 시장 스냅숏

제3장 비즈니스 상황

제4장 기술 전망

제5장 반도체 연마 패드 시장 : 패드 유형별

제6장 반도체 연마 패드 시장 : 반도체 유형별

제7장 반도체 연마 패드 시장 : 재료별

제8장 반도체 연마 패드 시장 : 연마 유형별

제9장 반도체 연마 패드 시장 : 웨이퍼 사이즈별

제10장 반도체 연마 패드 시장 : 지역별

제11장 경쟁 환경과 분석

제12장 기업 개요

제13장 부록

KSA
영문 목차

영문목차

Semiconductor Polishing Pads Market, with a 5.04% CAGR, is expected to grow to USD 1332.445 million in 2031 from USD 991.795 million in 2025.

Semiconductor polishing pads are critical consumables in chemical mechanical planarization (CMP), the process that delivers atomic-scale planarity across dielectric, metal, and barrier layers. Pad performance directly governs removal rate, within-wafer uniformity, defectivity, and overall cost of ownership in both front-end-of-line (FEOL) and advanced packaging CMP steps. The market remains tightly linked to wafer-start growth and the escalating node-for-node increase in CMP intensity driven by gate-all-around, backside power, chiplet integration, and heterogeneous packaging.

Core Growth Drivers

1. Relentless device miniaturization and advanced packaging Shrinking interconnect pitches, thinner low-k dielectrics, and multi-layer redistribution layers (RDL) in fan-out and 2.5D/3D packaging demand pads with finer porosity, higher shear stability, and extended lifetime. Hybrid bonding and sub-micron bump planarization further amplify pad consumption per wafer.

2. Automotive semiconductor expansion The shift to zone architecture vehicles, 800 V EV powertrains, and Level 3+ ADAS platforms continues to increase semiconductor content per vehicle. Automotive-grade reliability requirements translate into longer CMP steps and stricter defect targets, sustaining demand for premium pad formulations.

3. Consumer electronics volume High-volume logic, DRAM, and NAND production for smartphones, tablets, and high-bandwidth memory (HBM) maintains baseline pad consumption even as front-end nodes mature.

Key Restraints

Leading Commercial Platforms

Regional Dynamics

Asia-Pacific continues to dominate both production and consumption, accounting for the majority of global pad volume. China's massive expansion of mature-node and power-device capacity, combined with India's accelerating domestic electronics ecosystem, reinforces regional leadership. Taiwan, South Korea, and Japan anchor leading-edge logic, memory, and packaging demand, where next-generation pad architectures command premium pricing.

North America and Europe exhibit moderate but steady growth, driven primarily by U.S.-based IDMs expanding 300 mm automotive and analog capacity and European power-semiconductor investments. Local presence of major pad innovators (DuPont, 3M) supports faster qualification cycles for advanced nodes and packaging platforms.

The semiconductor polishing pads market remains on a solid upward trajectory, propelled by structural increases in CMP steps per wafer and the proliferation of advanced packaging. Suppliers that deliver longer pad life, lower defectivity at sub-10 nm nodes, and consistent performance across hybrid bonding and high-topography RDL applications will capture disproportionate value in an increasingly consumable-intensive fabrication landscape.

Key Benefits of this Report:

What do businesses use our reports for?

Industry and Market Insights, Opportunity Assessment, Product Demand Forecasting, Market Entry Strategy, Geographical Expansion, Capital Investment Decisions, Regulatory Framework & Implications, New Product Development, Competitive Intelligence

Report Coverage:

Semiconductor Polishing Pads Market Segmentation:

TABLE OF CONTENTS

1. EXECUTIVE SUMMARY

2. MARKET SNAPSHOT

3. BUSINESS LANDSCAPE

4. TECHNOLOGICAL OUTLOOK

5. SEMICONDUCTOR POLISHING PADS MARKET BY PAD TYPE

6. SEMICONDUCTOR POLISHING PADS MARKET BY SEMICONDUCTOR TYPE

7. SEMICONDUCTOR POLISHING PADS MARKET BY MATERIAL

8. SEMICONDUCTOR POLISHING PADS MARKET BY POLISHING TYPE

9. SEMICONDUCTOR POLISHING PADS MARKET BY WAFER SIZE

10. SEMICONDUCTOR POLISHING PADS MARKET BY GEOGRAPHY

11. COMPETITIVE ENVIRONMENT AND ANALYSIS

12. COMPANY PROFILES

13. APPENDIX

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