극자외선 리소그래피 시장 - 산업 규모, 점유율, 동향, 기회 및 예측 : 기술 노드별, 컴포넌트 유형별, 최종 사용 산업별, 지역별 경쟁(2021-2031년)
Extreme Ultraviolet Lithography Market - Global Industry Size, Share, Trends, Opportunity, and Forecast Segmented By Technology Node, By Component Type, By End-Use Industry, By Region & Competition, 2021-2031F
상품코드:1901660
리서치사:TechSci Research
발행일:2026년 01월
페이지 정보:영문 181 Pages
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한글목차
세계의 극자외선 리소그래피 시장은 2025년 93억 4,000만 달러에서 2031년까지 185억 2,000만 달러에 달하고, CAGR 12.09%로 성장할 전망입니다.
극자외선 리소그래피는 13.5 나노미터 파장의 빛을 이용하여 실리콘 웨이퍼 상에 복잡한 회로 패턴을 인쇄하는 첨단 반도체 제조 기술입니다. 이 시장은 주로 인공지능, 자율주행, 차세대 통신에 필수적인 소형화 및 고성능 마이크로칩에 대한 수요 증가에 의해 견인되고 있습니다.
시장 개요
예측 기간
2027-2031년
시장 규모 : 2025년
93억 4,000만 달러
시장 규모 : 2031년
185억 2,000만 달러
CAGR : 2026-2031년
12.09%
가장 빠르게 성장하는 부문
통합 디바이스 제조업체(IDM)
가장 큰 시장
아시아태평양
주요 시장 성장 촉진요인
고성능 컴퓨팅 및 인공지능 솔루션에 대한 수요 급증이 극자외선 리소그래피의 채용을 가속시키는 주요 요인이 되고 있습니다. 생성형 AI의 높은 계산 부하는 전례없는 트랜지스터 밀도를 가진 칩 아키텍처가 필요하기 때문입니다. 반도체 제조업체는 AI 가속기와 고대역폭 메모리(HBM)를 모두 지원하기 때문에 생산 우선순위를 빠르게 이동시키고 있습니다. 이 두 가지 모두 극자외선 파장만이 실현할 수 있는 정밀하고 중요한 차원이 필요합니다.
주요 시장 과제
극자외선 시스템과 관련된 방대한 설비 투자와 기술적 복잡성은 세계의 극자외선 리소그래피 시장의 확대를 막는 큰 장벽이 되고 있습니다. 이러한 재무적 및 기술적 장벽으로 인해, 이 기술의 채용은 거액의 초기 투자와 지속적인 운영 비용을 유지할 수 있는 자금력이 있는 한정된 반도체 제조업체에 한정되고 있습니다.
주요 시장 동향
높은 개구수(High-NA) 극자외선 시스템으로의 전환은 현재 0.33 NA 장치의 해상도 한계를 극복하도록 설계된 중요한 기술적 진화입니다.
목차
제1장 개요
제2장 조사 방법
제3장 주요 요약
제4장 고객의 목소리
제5장 세계의 극자외선 리소그래피 시장 전망
시장 규모 및 예측
금액별
시장 점유율 및 예측
컴포넌트 유형별(광원(극자외선 광원), 미러 및 광학계, 마스크 및 마스크 핸들링 시스템, 기타)
최종 이용 산업별(반도체 제조, 통합 디바이스 제조업체(IDM), 파운드리, 메모리 제조업체, 기타)
지역별
기업별(2025년)
시장 맵
제6장 북미의 극자외선 리소그래피 시장 전망
시장 규모 및 예측
시장 점유율 및 예측
북미 : 국가별 분석
미국
캐나다
멕시코
제7장 유럽의 극자외선 리소그래피 시장 전망
시장 규모 및 예측
시장 점유율 및 예측
유럽 : 국가별 분석
독일
프랑스
영국
이탈리아
스페인
제8장 아시아태평양의 극자외선 리소그래피 시장 전망
시장 규모 및 예측
시장 점유율 및 예측
아시아태평양 : 국가별 분석
중국
인도
일본
한국
호주
제9장 중동 및 아프리카의 극자외선 리소그래피 시장 전망
시장 규모 및 예측
시장 점유율 및 예측
중동 및 아프리카 : 국가별 분석
사우디아라비아
아랍에미리트(UAE)
남아프리카
제10장 남미의 극자외선 리소그래피 시장 전망
시장 규모 및 예측
시장 점유율 및 예측
남미 : 국가별 분석
브라질
콜롬비아
아르헨티나
제11장 시장 역학
성장 촉진요인
과제
제12장 시장 동향과 발전
인수합병
제품 출시
최근 동향
제13장 세계의 극자외선 리소그래피 시장 : SWOT 분석
제14장 Porter's Five Forces 분석
업계 내 경쟁
신규 진입 가능성
공급자의 힘
고객의 힘
대체품의 위협
제15장 경쟁 구도
ASML Holding NV.
CARL ZEISS AG.
Toppan Photomasks Inc
USHIO, INC
NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION.
KLA CORPORATION
ADVANTEST CORPORATION
Photronics, Inc
HOYA Corporation
Trumpf
제16장 전략적 제안
제17장 기업 소개와 면책사항
JHS
영문 목차
영문목차
The Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market will grow from USD 9.34 Billion in 2025 to USD 18.52 Billion by 2031 at a 12.09% CAGR. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography is an advanced semiconductor manufacturing technology that utilizes light with a wavelength of 13.5 nanometers to print intricate circuit patterns on silicon wafers. The market is primarily propelled by the escalating demand for miniaturized, high-performance microchips essential for artificial intelligence, autonomous driving, and next-generation telecommunications.
Market Overview
Forecast Period
2027-2031
Market Size 2025
USD 9.34 Billion
Market Size 2031
USD 18.52 Billion
CAGR 2026-2031
12.09%
Fastest Growing Segment
Integrated Device Manufacturers (IDMs)
Largest Market
Asia Pacific
Key Market Drivers
Surging Demand for High-Performance Computing and Artificial Intelligence Solutions is the primary catalyst accelerating the adoption of Extreme Ultraviolet Lithography, as the computational intensity of generative AI necessitates chip architectures with unprecedented transistor density. Semiconductor manufacturers are rapidly shifting production priorities to accommodate AI accelerators and High Bandwidth Memory (HBM), both of which require the precise critical dimensions that only EUV wavelengths can resolve.
Key Market Challenges
The exorbitant capital expenditure and technical complexity associated with EUV systems constitute a significant obstacle impeding the broader expansion of the Global Extreme Ultraviolet Lithography Market. These financial and technical barriers restrict the adoption of this technology to a limited number of well-capitalized semiconductor manufacturers capable of sustaining the massive initial outlay and ongoing operational costs.
Key Market Trends
The Transition to High-Numerical Aperture (High-NA) EUV Systems represents a critical technological evolution designed to overcome the resolution limits of current 0.33 NA tools. By increasing the numerical aperture to 0.55, these next-generation systems allow semiconductor manufacturers to print features with significantly higher contrast and reduced line-edge roughness, thereby eliminating the need for complex and costly double-patterning techniques at sub-2nm nodes.
Key Market Players
ASML Holding NV.
CARL ZEISS AG.
Toppan Photomasks Inc
USHIO, INC
NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION.
KLA CORPORATION
ADVANTEST CORPORATION
Photronics, Inc
HOYA Corporation
Trumpf
Report Scope:
In this report, the Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market has been segmented into the following categories, in addition to the industry trends which have also been detailed below:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market, By Component Type:
Light Source (EUV Sources)
Mirrors and Optics
Mask and Mask Handling Systems
Others
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market, By End-Use Industry:
Semiconductor Manufacturing
Integrated Device Manufacturers (IDMs)
Foundries
Memory Manufacturers
Others
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market, By Region:
North America
United States
Canada
Mexico
Europe
France
United Kingdom
Italy
Germany
Spain
Asia Pacific
China
India
Japan
Australia
South Korea
South America
Brazil
Argentina
Colombia
Middle East & Africa
South Africa
Saudi Arabia
UAE
Competitive Landscape
Company Profiles: Detailed analysis of the major companies present in the Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market.
Available Customizations:
Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market report with the given market data, TechSci Research offers customizations according to a company's specific needs. The following customization options are available for the report:
Company Information
Detailed analysis and profiling of additional market players (up to five).
Table of Contents
1. Product Overview
1.1. Market Definition
1.2. Scope of the Market
1.2.1. Markets Covered
1.2.2. Years Considered for Study
1.2.3. Key Market Segmentations
2. Research Methodology
2.1. Objective of the Study
2.2. Baseline Methodology
2.3. Key Industry Partners
2.4. Major Association and Secondary Sources
2.5. Forecasting Methodology
2.6. Data Triangulation & Validation
2.7. Assumptions and Limitations
3. Executive Summary
3.1. Overview of the Market
3.2. Overview of Key Market Segmentations
3.3. Overview of Key Market Players
3.4. Overview of Key Regions/Countries
3.5. Overview of Market Drivers, Challenges, Trends
4. Voice of Customer
5. Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
5.1. Market Size & Forecast
5.1.1. By Value
5.2. Market Share & Forecast
5.2.1. By Component Type (Light Source (EUV Sources), Mirrors and Optics, Mask and Mask Handling Systems, Others)
5.2.2. By End-Use Industry (Semiconductor Manufacturing, Integrated Device Manufacturers (IDMs), Foundries, Memory Manufacturers, Others)
5.2.3. By Region
5.2.4. By Company (2025)
5.3. Market Map
6. North America Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
6.1. Market Size & Forecast
6.1.1. By Value
6.2. Market Share & Forecast
6.2.1. By Component Type
6.2.2. By End-Use Industry
6.2.3. By Country
6.3. North America: Country Analysis
6.3.1. United States Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
6.3.1.1. Market Size & Forecast
6.3.1.1.1. By Value
6.3.1.2. Market Share & Forecast
6.3.1.2.1. By Component Type
6.3.1.2.2. By End-Use Industry
6.3.2. Canada Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
6.3.2.1. Market Size & Forecast
6.3.2.1.1. By Value
6.3.2.2. Market Share & Forecast
6.3.2.2.1. By Component Type
6.3.2.2.2. By End-Use Industry
6.3.3. Mexico Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
6.3.3.1. Market Size & Forecast
6.3.3.1.1. By Value
6.3.3.2. Market Share & Forecast
6.3.3.2.1. By Component Type
6.3.3.2.2. By End-Use Industry
7. Europe Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
7.1. Market Size & Forecast
7.1.1. By Value
7.2. Market Share & Forecast
7.2.1. By Component Type
7.2.2. By End-Use Industry
7.2.3. By Country
7.3. Europe: Country Analysis
7.3.1. Germany Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
7.3.1.1. Market Size & Forecast
7.3.1.1.1. By Value
7.3.1.2. Market Share & Forecast
7.3.1.2.1. By Component Type
7.3.1.2.2. By End-Use Industry
7.3.2. France Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
7.3.2.1. Market Size & Forecast
7.3.2.1.1. By Value
7.3.2.2. Market Share & Forecast
7.3.2.2.1. By Component Type
7.3.2.2.2. By End-Use Industry
7.3.3. United Kingdom Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
7.3.3.1. Market Size & Forecast
7.3.3.1.1. By Value
7.3.3.2. Market Share & Forecast
7.3.3.2.1. By Component Type
7.3.3.2.2. By End-Use Industry
7.3.4. Italy Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
7.3.4.1. Market Size & Forecast
7.3.4.1.1. By Value
7.3.4.2. Market Share & Forecast
7.3.4.2.1. By Component Type
7.3.4.2.2. By End-Use Industry
7.3.5. Spain Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
7.3.5.1. Market Size & Forecast
7.3.5.1.1. By Value
7.3.5.2. Market Share & Forecast
7.3.5.2.1. By Component Type
7.3.5.2.2. By End-Use Industry
8. Asia Pacific Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
8.1. Market Size & Forecast
8.1.1. By Value
8.2. Market Share & Forecast
8.2.1. By Component Type
8.2.2. By End-Use Industry
8.2.3. By Country
8.3. Asia Pacific: Country Analysis
8.3.1. China Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
8.3.1.1. Market Size & Forecast
8.3.1.1.1. By Value
8.3.1.2. Market Share & Forecast
8.3.1.2.1. By Component Type
8.3.1.2.2. By End-Use Industry
8.3.2. India Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
8.3.2.1. Market Size & Forecast
8.3.2.1.1. By Value
8.3.2.2. Market Share & Forecast
8.3.2.2.1. By Component Type
8.3.2.2.2. By End-Use Industry
8.3.3. Japan Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
8.3.3.1. Market Size & Forecast
8.3.3.1.1. By Value
8.3.3.2. Market Share & Forecast
8.3.3.2.1. By Component Type
8.3.3.2.2. By End-Use Industry
8.3.4. South Korea Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
8.3.4.1. Market Size & Forecast
8.3.4.1.1. By Value
8.3.4.2. Market Share & Forecast
8.3.4.2.1. By Component Type
8.3.4.2.2. By End-Use Industry
8.3.5. Australia Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
8.3.5.1. Market Size & Forecast
8.3.5.1.1. By Value
8.3.5.2. Market Share & Forecast
8.3.5.2.1. By Component Type
8.3.5.2.2. By End-Use Industry
9. Middle East & Africa Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
9.1. Market Size & Forecast
9.1.1. By Value
9.2. Market Share & Forecast
9.2.1. By Component Type
9.2.2. By End-Use Industry
9.2.3. By Country
9.3. Middle East & Africa: Country Analysis
9.3.1. Saudi Arabia Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
9.3.1.1. Market Size & Forecast
9.3.1.1.1. By Value
9.3.1.2. Market Share & Forecast
9.3.1.2.1. By Component Type
9.3.1.2.2. By End-Use Industry
9.3.2. UAE Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
9.3.2.1. Market Size & Forecast
9.3.2.1.1. By Value
9.3.2.2. Market Share & Forecast
9.3.2.2.1. By Component Type
9.3.2.2.2. By End-Use Industry
9.3.3. South Africa Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
9.3.3.1. Market Size & Forecast
9.3.3.1.1. By Value
9.3.3.2. Market Share & Forecast
9.3.3.2.1. By Component Type
9.3.3.2.2. By End-Use Industry
10. South America Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
10.1. Market Size & Forecast
10.1.1. By Value
10.2. Market Share & Forecast
10.2.1. By Component Type
10.2.2. By End-Use Industry
10.2.3. By Country
10.3. South America: Country Analysis
10.3.1. Brazil Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
10.3.1.1. Market Size & Forecast
10.3.1.1.1. By Value
10.3.1.2. Market Share & Forecast
10.3.1.2.1. By Component Type
10.3.1.2.2. By End-Use Industry
10.3.2. Colombia Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
10.3.2.1. Market Size & Forecast
10.3.2.1.1. By Value
10.3.2.2. Market Share & Forecast
10.3.2.2.1. By Component Type
10.3.2.2.2. By End-Use Industry
10.3.3. Argentina Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Outlook
10.3.3.1. Market Size & Forecast
10.3.3.1.1. By Value
10.3.3.2. Market Share & Forecast
10.3.3.2.1. By Component Type
10.3.3.2.2. By End-Use Industry
11. Market Dynamics
11.1. Drivers
11.2. Challenges
12. Market Trends & Developments
12.1. Merger & Acquisition (If Any)
12.2. Product Launches (If Any)
12.3. Recent Developments
13. Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market: SWOT Analysis
