세계의 EUV 펠리클 시장 : 시장 규모, 점유율 및 동향 분석(재료별 및 용도별, 지역별), 부문별 예측(2025-2030년)
EUV Pellicle Market Size, Share & Trends Analysis Report By Material (Silicon-based, Carbon-based), By Application (Semiconductor Foundries, Consumer Electronics, Memory Devices), By Region (Asia Pacific, Europe), And Segment Forecasts, 2025 - 2030
상품코드 : 1728011
리서치사 : Grand View Research
발행일 : 2025년 04월
페이지 정보 : 영문 101 Pages
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한글목차

EUV 펠리클 시장의 성장 및 동향 :

Grand View Research, Inc.의 최신 보고서에 따르면 세계의 EUV 펠리클 시장 규모는 2030년까지 16억 달러에 이를 것으로 예측되며, 2025년부터 2030년까지 14.4%의 연평균 성장률(CAGR)로 성장할 전망입니다.

이 시장은 첨단 반도체 제조 기술에 대한 수요 증가로 인해 크게 주도되고 있습니다. 반도체 산업이 5nm, 3nm 이하와 같은 더 작은 공정 노드로 이동함에 따라 차세대 칩 제조에 필요한 고해상도와 정밀도를 달성하기 위해 극자외선 리소그래피가 필수적인 요소가 되었습니다.

또 다른 주요 촉진요인은 효율성과 기능이 향상된 고성능 칩을 필요로 하는 소비자 가전 및 컴퓨팅 기술의 급속한 확장입니다. 스마트폰, 태블릿, 웨어러블, 하이엔드 개인용 컴퓨터와 같은 디바이스의 확산과 5G, 인공지능, 사물 인터넷과 같은 기술의 통합으로 인해 정교한 반도체 디바이스에 대한 필요성이 더욱 커졌습니다. 이에 따라 칩 제조업체는 EUV 리소그래피 시스템에 대한 투자를 늘리고 있으며, 결함을 최소화하면서 대량 생산을 지원하기 위해 고품질의 안정적인 EUV 펠리클에 대한 수요를 촉진하고 있습니다.

펠리클 재료의 기술 발전은 EUV 펠리클 시장의 성장에 더욱 기여하고 있습니다. 탄소 나노튜브 펠리클 및 기타 차세대 재료와 같은 혁신 기술은 기존 대안에 비해 향상된 광학 투과율, 열 안정성 및 기계적 내구성을 제공합니다. Imec과 Mitsui Chemicals의 파트너십과 같은 전략적 협업은 이러한 첨단 펠리클 솔루션의 개발과 상용화를 가속화하고 있습니다. 이러한 혁신은 EUV 리소그래피의 전반적인 효율성을 향상시키고 반도체 디바이스의 지속적인 확장을 지원하고 있습니다.

주요 업계 참여자들의 존재와 적극적인 참여도 EUV 펠리클 시장을 발전시키는 데 중요한 역할을 하고 있습니다. ASML Holding N.V., FUJIFILM Holdings Corporation, Entegris 및 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd와 같은 기업들은 펠리클 성능과 제조 확장성을 개선하기 위해 연구 개발에 막대한 투자를 하고 있습니다. 이러한 노력은 반도체 생산의 복잡성 증가를 해결하고 안정적인 공급망을 보장하며 고성능 칩에 대한 글로벌 수요 증가를 충족하는 데 매우 중요합니다.

EUV 펠리클 시장 : 분석 개요

목차

제1장 분석 방법 및 범위

제2장 주요 요약

제3장 EUV 펠리클 시장 : 변동 요인 및 경향 및 범위

제4장 EUV 펠리클 시장 : 재료별 추정 및 동향 분석

제5장 EUV 펠리클 시장 : 용도별 추정 및 동향 분석

제6장 EUV 펠리클 시장 : 지역별 추정 및 동향 분석

제7장 공급자 정보

제8장 경쟁 구도

HBR
영문 목차

영문목차

EUV Pellicle Market Growth & Trends:

The global EUV pellicle market size is anticipated to reach USD 1.6 billion by 2030 and is anticipated to grow at a CAGR of 14.4% from 2025 to 2030, according to a new report by Grand View Research, Inc.The market is being significantly driven by the increasing demand for advanced semiconductor manufacturing technologies. As the semiconductor industry shifts toward smaller process nodes such as 5nm, 3nm, and below, extreme ultraviolet lithography has become essential for achieving the high resolution and precision required in next-generation chip fabrication. EUV pellicles serve as critical components that protect photomasks from particle contamination during the lithography process, thereby improving yield rates and reducing defects. This has led to a growing emphasis on pellicle adoption as a standard solution in advanced semiconductor production environments.

Another key driver is the rapid expansion of consumer electronics and computing technologies, which require high-performance chips with enhanced efficiency and functionality. The proliferation of devices such as smartphones, tablets, wearables, and high-end personal computers, along with the integration of technologies like 5G, artificial intelligence, and the Internet of Things, has intensified the need for sophisticated semiconductor devices. As a result, chip manufacturers are increasingly investing in EUV lithography systems, thereby fueling demand for high-quality and reliable EUV pellicles to support high-volume production with minimal defects.

Technological advancements in pellicle materials are further contributing to the growth of the EUV pellicle market. Innovations such as carbon nanotube pellicles and other next-generation materials offer improved optical transmittance, thermal stability, and mechanical durability when compared to conventional alternatives. Strategic collaborations, such as the partnership between Imec and Mitsui Chemicals, are accelerating the development and commercialization of these advanced pellicle solutions. These innovations are enhancing the overall efficiency of EUV lithography and supporting the continued scaling of semiconductor devices.

The presence and active involvement of major industry participants is also playing a crucial role in driving the EUV pellicle market forward. Companies such as ASML Holding N.V., FUJIFILM Holdings Corporation, Entegris, and Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. are heavily investing in research and development to improve pellicle performance and manufacturing scalability. These efforts are critical in addressing the growing complexity of semiconductor production, ensuring a stable supply chain, and meeting the increasing global demand for high-performance chips.

EUV Pellicle Market Report Highlights:

Table of Contents

Chapter 1. Methodology and Scope

Chapter 2. Executive Summary

Chapter 3. EUV Pellicle Market Variables, Trends & Scope

Chapter 4. EUV Pellicle Market: Material Estimates & Trend Analysis

Chapter 5. EUV Pellicle Market: Application Estimates & Trend Analysis

Chapter 6. EUV Pellicle Market: Regional Estimates & Trend Analysis

Chapter 7. Supplier Intelligence

Chapter 8. Competitive Landscape

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