극자외선 리소그래피 시장 규모, 점유율, 동향 분석 보고서 : 장비별, 최종 용도별, 지역별, 부문 예측(2024-2030년)
Extreme Ultraviolet Lithography Market Size, Share & Trends Analysis Report By Equipment (Light Source, Optics, Mask), By End Use (Integrated Device Manufacturer, Foundries), By Region, And Segment Forecasts, 2024 - 2030
상품코드 : 1554014
리서치사 : Grand View Research
발행일 : 2024년 08월
페이지 정보 : 영문 152 Pages
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한글목차

시장 규모와 동향 :

세계의 극자외선 리소그래피 시장 규모는 2023년에 94억 2,000만 달러로 추계되며, 2024-2030년 CAGR 17.3%로 성장할 것으로 예측됩니다.

EUV 리소그래피 시장은 반도체 소자의 소형화 및 고효율화에 대한 수요 증가에 힘입어 강력한 성장세를 보이고 있습니다. 전자기기의 소형화와 함께 전력 소비와 효율성이 향상됨에 따라 제조업체들은 차세대 반도체 제조를 위한 핵심 기술로 극자외선(EUV) 리소그래피를 주목하고 있습니다. 이러한 추세는 주로 소비자 전자제품, 자동차, 고성능 컴퓨팅 등의 분야에서 지속적인 발전이 이루어짐에 따라 더욱 가속화되고 있습니다.

EUV 리소그래피는 반도체 제조 공정에서 실리콘 웨이퍼에 매우 복잡한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 최첨단 기술입니다. EUV 리소그래피는 극자외선 영역의 극히 짧은 파장의 빛을 사용하여 전례 없는 해상도와 정밀도를 구현함으로써 더 작고, 더 빠르고, 더 효율적인 반도체 소자를 제조할 수 있게 해줍니다. 컴퓨터에서 첨단 AI 및 5G 네트워크에 이르기까지 다양한 하이테크 용도에 필요한 차세대 마이크로칩의 문을 열어줄 것입니다.

EUV 리소그래피 시장의 성장에 기여하는 또 다른 요인은 반도체 산업 자체의 혁신과 기술 발전 속도가 빠르다는 점입니다. 칩 제조업체들이 계속해서 가능성의 한계에 도전하고 있는 가운데, EUV 리소그래피는 탁월한 정밀도와 확장성으로 인해 이러한 진보를 실현하는 중요한 툴로 각광받고 있습니다.

목차

제1장 조사 방법과 범위

제2장 개요

제3장 극자외선(EUV) 리소그래피 시장의 변수, 동향, 범위

제4장 극자외선(EUV) 리소그래피 시장 : 장비 추정·동향 분석

제5장 극자외선(EUV) 리소그래피 시장 : 최종 용도 추정·동향 분석

제6장 극자외선(EUV) 리소그래피 시장 : 지역 추정·동향 분석

제7장 경쟁 구도

KSA
영문 목차

영문목차

Market Size & Trends:

The global extreme ultraviolet lithography market size was estimated at USD 9.42 billion in 2023 and is projected to grow at a CAGR of 17.3% from 2024 to 2030. The EUV lithography market is experiencing robust growth driven by the rising demand for smaller and more efficient semiconductor devices. As electronics continue to shrink while simultaneously increasing in power and efficiency, manufacturers are turning to extreme ultraviolet (EUV) lithography as a key technology to produce the next generation of semiconductors. This trend is primarily fueled by the ongoing advancements in sectors such as consumer electronics, automotive, and high-performance computing.

The EUV lithography is a cutting-edge technology used in the semiconductor manufacturing process to create highly intricate patterns on silicon wafers. This technology employs extremely short wavelengths of light, in the extreme ultraviolet spectrum, to achieve unprecedented resolutions and precision, enabling the production of semiconductor devices that are smaller, faster, and more efficient. EUV lithography represents a significant advancement over traditional lithography techniques, opening the door to the next generation of microchips required for various high-tech applications, from smartphones and computers to advanced AI and 5G networks.

Another factor contributing to the growth of the EUV lithography market is the rapid pace of innovation and technological advancements within the semiconductor industry itself. As chip manufacturers continue to push the boundaries of what's possible, EUV lithography stands out as a critical tool for realizing these advancements, thanks to its unparalleled precision and scalability.

Global Extreme Ultraviolet Lithography Market Report Segmentation

This report forecasts revenue growth at global, regional & country levels and provides an analysis on the industry trends in each of the sub-segments from 2018 to 2030. For this study, Grand View Research has segmented the global extreme ultraviolet lithography market report on the basis of equipment, end use, and region:

Table of Contents

Chapter 1. Methodology and Scope

Chapter 2. Executive Summary

Chapter 3. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Variables, Trends, & Scope

Chapter 4. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market: Equipment Estimates & Trend Analysis

Chapter 5. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market: End Use Estimates & Trend Analysis

Chapter 6. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market: Region Estimates & Trend Analysis

Chapter 7. Competitive Landscape

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