세계의 EUV 리소그래피 시장 규모, 점유율, 성장 및 산업 분석 : 유형별, 용도별, 지역별 인사이트 및 예측(2024-2032년)
EUV Lithography Market Size, Share, Growth and Global Industry Analysis By Type & Application, Regional Insights and Forecast to 2024-2032
상품코드:1887068
리서치사:Fortune Business Insights Pvt. Ltd.
발행일:2025년 11월
페이지 정보:영문 150 Pages
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EUV 리소그래피 시장의 성장 요인
반도체 제조업체들이 7nm 이하의 첨단 공정으로 점차 전환함에 따라 글로벌 EUV 리소그래피 시장은 기술적·상업적 확장이 가속화되는 단계에 접어들고 있습니다. 2024년 추정에 따르면 세계의 시장 규모는 111억 9,000만 달러로 평가되었습니다. 반도체 파운더리, 집적 디바이스 제조업체, 고도의 가전으로부터의 강한 수요를 받아 시장은 2025년에 121억 6,000만 달러에 이를 것으로 예측되며, 또한 2032년까지 242억 3,000만 달러로 확대할 것으로 예측되고 있어 예측 기간중의 CAGR은 10.35%가 될 전망입니다. 유럽은 견조한 R&D 에코시스템과 세계를 선도하는 리소그래피 장비 제조업체에 힘입어 2024년 44.15%의 점유율로 세계의 시장을 주도했습니다.
EUV 리소그래피는 특히 7nm 이하의 미세 구조를 가진 칩 생산을 포함한 첨단 반도체 제조를 가능하게 하는 핵심 기술입니다. 극자외선(EUV)을 활용하여 실리콘 웨이퍼에 더 정밀한 패턴을 형성함으로써 제조사는 트랜지스터 밀도를 높이고 무어의 법칙을 연장할 수 있습니다. EUV 장비는 AI 시스템, 5G 인프라, 데이터 센터, 고성능 소비자 기기에 사용되는 프로세서, 메모리 칩, 초고속 전자기기 생산에 필수적입니다.
생성형 AI의 영향
생성형 AI는 패턴 레이아웃 최적화, 시뮬레이션 정확도 향상, 결함 탐지 개선을 통해 반도체 제조 공정을 혁신하고 있습니다. EUV 리소그래피는 AI 지원 모델링을 통해 제조 변동성 감소, 생산 주기 단축, 웨이퍼 수율 향상이라는 상당한 이점을 얻습니다. 반도체 기업들이 첨단 AI 기반 자동화를 도입함에 따라, 리소그래피 패턴 설계에 AI를 통합하는 움직임은 시장 확장을 지속적으로 가속화할 것입니다.
시장 성장 촉진요인
EUV 리소그래피 도입의 주요 촉진요인은 집적 회로의 복잡성 증가입니다. 고급 프로세서와 메모리 아키텍처는 초미세 기하 구조와 더 높은 트랜지스터 밀도를 요구하며, 이는 EUV 리소그래피를 통해서만 달성 가능합니다. 5nm, 3nm 및 신흥 3nm 미만 노드에 대한 투자 확대는 EUV를 반도체 혁신의 중심에 위치시킵니다.
또한 데이터 센터, 클라우드 컴퓨팅, 고성능 컴퓨팅의 확장은 NAND 플래시 및 DRAM과 같은 차세대 메모리 장치에 대한 수요를 가속화합니다. EUV는 첨단 메모리 구조에 필요한 정밀도와 확장성을 가능하게 합니다. TSMC와 ASML의 EUV 생산 능력 확대를 위한 협력과 같은 전략적 제휴는 EUV 기반 대량 생산으로의 지속적인 전환을 강조합니다.
시장 성장 억제요인
이러한 장점에도 불구하고 EUV 리소그래피는 주요 장벽에 직면해 있습니다. 장비 비용이 기존 리소그래피 장비보다 수 배 더 비싸며, 마스크, 펠리클, 고에너지 광원 등 EUV 구성품의 제조는 매우 복잡하고 비용이 많이 듭니다. 중소 규모 파운드리 업체들은 EUV 기술 도입에 재정적 제약을 겪고 있으며, 특수 부품의 글로벌 부족으로 설치 병목 현상이 발생하고 있습니다.
또한 마스크 무결성, 펠리클 내구성, 결함 없는 패턴 구현의 어려움은 완전한 도입을 계속 지연시키고 있으나, 업계 혁신으로 점차 해결되고 있습니다.
시장 기회
반도체 제조에 대한 글로벌 투자 확대와 데이터 센터의 급속한 성장은 EUV 리소그래피 시스템에 상당한 기회를 제공합니다. 소비자 가전, 자동차 전자기기, AI 지원 기기가 강력하고 에너지 효율적인 칩을 요구함에 따라 EUV 리소그래피는 첨단 노드 제조에 필수불가결해지고 있습니다. 차세대 고 NA EUV 기술에 대한 연구 개발 자금 증가로 패턴 정확도가 더욱 향상되고 더 작은 기하학적 구조가 가능해져 장기적인 시장 전망이 강화될 것입니다.
부문 개요
장치 유형별
2024년 고출력 EUV 발생 시스템의 혁신에 힘입어 광원 부문이 42.12%로 가장 큰 점유율을 차지했습니다. 마스크는 고정밀 반도체 패턴 및 7nm 미만 구조에 대한 수요 증가로 가장 빠른 성장률을 기록할 것으로 예상됩니다.
최종 사용자별
통합 반도체 제조업체(IDM)는 고밀도, 고성능 칩 생산을 위해 EUV를 활용하며 2024년 시장을 주도했습니다. IDM은 2025년 시장 점유율 55.77%를 유지할 것으로 전망됩니다. 파운드리 부문은 주요 업체들이 상용 칩 생산을 위해 EUV로 전환하는 추세가 가속화되면서 12.27%의 최고 연평균 성장률(CAGR)을 보일 전망입니다.
지역별 인사이트
유럽-시장 선도
유럽은 2024년 49억 4,000만 달러 규모로 글로벌 수요를 주도했습니다. 이 지역은 강력한 반도체 연구개발(R&D) 생태계와 인텔의 독일 및 폴란드 내 수십억 달러 규모 칩 제조 프로젝트와 같은 대규모 투자의 혜택을 받고 있습니다.
아시아태평양
아시아태평양은 2025년 TSMC, 삼성, SMIC에 의한 대규모 EUV 도입을 배경으로 2025년에는 34억 달러에 이를 것으로 예측됩니다.
북미
북미는 AI 칩과 첨단 컴퓨팅 기술에 대한 수요 증가에 힘입어 2025년에는 18억 달러에 달할 것으로 예측됩니다.
목차
제1장 서론
제2장 주요 요약
제3장 시장 역학
매크로와 마이크로 경제 지표
성장 촉진요인, 억제요인, 기회, 동향
생성형 AI의 영향
제4장 경쟁 구도
주요 기업이 채택하는 비즈니스 전략
주요 기업의 통합 SWOT 분석
세계의 EUV 리소그래피 주요 기업(상위 3-5사) 시장 점유율/순위(2024년)
제5장 부문에 따른 세계의 EUV 리소그래피 시장 규모, 추정 및 예측(2019-2032년)
주요 조사 결과
장치 유형별
광원
광학계
마스크
기타(미러 등)
최종 사용자별
집적 디바이스 제조업체
파운드리
지역별
북미
남미
유럽
중동 및 아프리카
아시아태평양
제6장 북미의 EUV 리소그래피 시장 규모, 추정 및 예측(부문별, 2019-2032년)
국가별
미국
캐나다
멕시코
제7장 남미의 EUV 리소그래피 시장 규모, 추정 및 예측(부문별, 2019-2032년)
국가별
브라질
아르헨티나
기타 남미
제8장 유럽의 EUV 리소그래피 시장 규모, 추정 및 예측(부문별, 2019-2032년)
국가별
영국
독일
프랑스
이탈리아
스페인
러시아
베네룩스
북유럽 국가
기타 유럽
제9장 중동 및 아프리카의 EUV 리소그래피 시장 규모, 추정 및 예측(부문별, 2019-2032년)
국가별
튀르키예
이스라엘
GCC
북아프리카
남아프리카
기타 중동 및 아프리카
제10장 아시아태평양의 EUV 리소그래피 시장 규모, 추정 및 예측(부문별, 2019-2032년)
국가별
중국
인도
일본
한국
ASEAN
오세아니아
기타 아시아태평양
제11장 주요 10개 기업의 기업 프로파일
ASML
Samsung Groups Co. Ltd.
Canon Inc.
NTT Advanced Technology Corporation
Nikon Corporation
KLA Corporation
ADVANTEST CORPORATION
Ushio Inc.
TOPPAN PHOTOMASKS
SUSS MicroTec SE
제12장 주요 포인트
HBR
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Growth Factors of EUV lithography Market
The global EUV lithography market is entering a phase of rapid technological and commercial expansion as semiconductor manufacturers increasingly shift toward advanced nodes below 7nm. According to 2024 estimates, the global market was valued at USD 11.19 billion. With strong demand from semiconductor foundries, integrated device manufacturers, and advanced consumer electronics, the market is projected to reach USD 12.16 billion in 2025 and further expand to USD 24.23 billion by 2032, reflecting a CAGR of 10.35% during the forecast period. Europe led the global landscape with a 44.15% share in 2024, supported by robust R&D ecosystems and world-leading lithography equipment manufacturers.
EUV lithography is essential for enabling advanced semiconductor fabrication, particularly in producing chips with feature sizes below 7 nanometers. By using extreme ultraviolet light, the technology enables more precise patterning on silicon wafers, allowing manufacturers to increase transistor density and extend Moore's Law. EUV tools are critical in producing processors, memory chips, and ultra-fast electronics used in AI systems, 5G infrastructure, data centers, and high-performance consumer devices.
Impact of Generative AI
Generative AI is transforming semiconductor manufacturing processes by optimizing pattern layouts, enhancing simulation accuracy, and improving defect detection. EUV lithography benefits significantly from AI-assisted modeling, which reduces manufacturing variability, shortens production cycles, and increases wafer yield rates. As semiconductor companies adopt advanced AI-driven automation, the integration of AI into lithography pattern design will continue to accelerate market expansion.
Market Drivers
The primary driver of EUV lithography adoption is the increasing complexity of integrated circuits. Advanced processors and memory architectures demand ultra-fine geometries and higher transistor densities, which are only achievable through EUV lithography. Growing investment in 5nm, 3nm, and emerging sub-3nm nodes places EUV at the center of semiconductor innovation.
Furthermore, the expansion of data centers, cloud computing, and high-performance computing intensifies demand for next-generation memory devices such as NAND Flash and DRAM. EUV enables the precision and scalability required for advanced memory structures. Strategic collaborations-such as TSMC's partnership with ASML to expand EUV capacity-highlight the ongoing shift toward EUV-enabled mass production.
Market Restraints
Despite its advantages, EUV lithography faces major barriers. The equipment is extremely expensive, costing several times more than conventional lithography tools. EUV components-including masks, pellicles, and high-energy light sources-are highly complex and costly to manufacture. Smaller foundries face financial limitations in adopting EUV technology, and global shortages of specialized components have caused installation bottlenecks.
Additionally, challenges in mask integrity, pellicle durability, and achieving defect-free patterns continue to slow full-scale adoption, although industry innovations are gradually resolving these issues.
Market Opportunities
Expanding global investment in semiconductor fabrication and the rapid growth of data centers provide significant opportunities for EUV lithography systems. As consumer electronics, automotive electronics, and AI-enabled devices require powerful and energy-efficient chips, EUV lithography becomes indispensable for manufacturing advanced nodes. Increasing R&D funding for next-generation High-NA EUV technology will further enhance pattern accuracy and enable even smaller geometries, strengthening long-term market prospects.
Segmentation Overview
By Equipment Type
The light source segment held the largest share in 2024 at 42.12%, driven by innovations in high-power EUV generation systems. Masks are expected to register the fastest growth due to rising demand for high-precision semiconductor patterns and sub-7nm structures.
By End-User
Integrated Device Manufacturers (IDMs) dominated the market in 2024, leveraging EUV to deliver high-density, high-performance chips. IDMs are projected to hold 55.77% of the market in 2025. Foundries will exhibit the highest CAGR of 12.27%, as leading players increasingly transition to EUV for commercial chip production.
Regional Insights
Europe - Market Leader
Europe led global demand with a valuation of USD 4.94 billion in 2024. The region benefits from strong semiconductor R&D ecosystems and major investments such as Intel's multi-billion-dollar chip manufacturing projects in Germany and Poland.
Asia Pacific
Asia Pacific is the fastest-growing region, expected to reach USD 3.40 billion in 2025, driven by TSMC, Samsung, and SMIC's extensive EUV deployments.
North America
North America is projected to reach USD 1.80 billion in 2025, supported by rising demand for AI chips and advanced computing technologies.
Competitive Landscape
ASML remains the exclusive producer of EUV systems globally, giving it a dominant position in the market. Other major players-Samsung, Canon, KLA, Nikon, ZEISS, and Advantest-play critical roles in optics, metrology, and inspection systems. Continuous product innovations, strategic alliances, and High-NA EUV developments will define the competitive landscape through 2032.
Segmentation By Equipment
Light Source
Optics
Mask
Others (Mirror, etc.)
By End-user
Integrated Device Manufacturer
Foundries
By Region
North America (By Equipment, End-user, and Country)
U.S.
Canada
Mexico
South America (By Equipment, End-user, and Country)
Brazil
Argentina
Rest of South America
Europe (By Equipment, End-user, and Country)
Germany
France
Italy
Spain
Russia
Benelux
Nordics
Rest of Europe
Middle East & Africa (By Equipment, End-user, and Country)
Turkey
Israel
GCC
South Africa
North Africa
Rest of the Middle East & Africa
Asia Pacific (By Equipment, End-user, and Country)
China
India
Japan
South Korea
ASEAN
Oceania
Rest of Asia Pacific
Companies Profiled in the Report ASML (Netherlands), Samsung Electronics Co. Ltd. (South Korea), Canon Inc. (Japan), KLA Corporation (U.S.), NTT Advanced Technology Corporation (Japan), Nikon Corporation (China), ZEISS Group (Germany), ADVANTEST CORPORATION (Japan), SUSS MicroTec SE (Germany)
Table of Content
1. Introduction
1.1. Definition, By Segment
1.2. Research Methodology/Approach
1.3. Data Sources
2. Executive Summary
3. Market Dynamics
3.1. Macro and Micro Economic Indicators
3.2. Drivers, Restraints, Opportunities and Trends
