세계의 화학기상증착(CVD) 시장 규모는 2031년까지 510억 달러 초과
세계의 화학기상증착(CVD) 시장은 반도체 수요의 증가 및 첨단 코팅의 채택 증가에 의해 호황을 보이고 있습니다.
전략 컨설팅과 시장 조사 대기업인 BlueWeave Consulting은 최근 조사에서 2024년의 세계 화학기상증착(CVD) 시장 규모를 320억 달러로 추정했습니다. 2025-2031년의 예측 기간 중 BlueWeave는 세계의 화학기상증착(CVD) 시장 규모가 CAGR 7.20%로 확대하며, 2031년에는 512억 달러에 달할 것으로 예측하고 있습니다. 전자제품 제조 확대에 따른 반도체 칩 수요 급증은 세계 화학 기상 증착(CVD) 시장을 촉진하는 주요 요인 중 하나입니다. 소비자의 가처분 소득이 증가함에 따라 전기 및 전자 장비 시장이 견고해지고 반도체 제조에 대한 필요성이 높아지면서 CVD 기술에 대한 수요가 증가하게 됩니다.
기회 - 광범위한 R&D 프로그램
다양한 분야에서 화학기상증착(CVD)에 대한 수요가 증가함에 따라 공공과 민간 모두 R&D 활동에 대한 자금 지원이 확대될 것으로 예상됩니다. 최근 Nature Communications에 게재된 연구에 따르면 무거운 불활성 가스의 공류를 추가하여 화학 기상 증착의 단계 커버리지(SC)를 개선하는 데 초점을 맞춘 연구 결과가 발표되었습니다. ACS Publications에 게재된 또 다른 연구는 기존의 분말야금 기술에 비해 변위 밀도와 부품의 내부 변형이 낮은 초순수 텅스텐 부품의 대규모 생산에 CVD 방법을 적용할 수 있는 가능성을 모색하고 있습니다. 이러한 연구는 다양한 산업 분야에서 화학 기상 증착(CVD)에 유리한 성장 기회를 제공하여 전체 시장 성장을 가속할 것으로 예상됩니다.
지정학적 긴장 증가가 세계 화학기상증착(CVD) 시장에 미치는 영향
지정학적 긴장이 고조되면 세계 화학 기상 증착(CVD) 시장의 성장을 저해할 수 있습니다. 군적, 정치적 긴장은 희토류 원소와 같은 필수 원자재 공급망에 혼란을 초래하여 CVD 장비의 생산 지연과 가격 상승을 초래할 수 있습니다. 또한 무역 제한과 관세는 반도체 산업과 같은 주요 최종사용자 부문의 운영을 방해하고 가스, 기판, 장비와 같은 필수 부품의 흐름에 영향을 미칠 수 있습니다. 또한 정치적 예측 불가능성과 변동성은 특히 지정학적 위험이 직접적으로 존재하는 지역에서 CVD 인프라와 기술에 대한 장기적인 투자를 방해할 수 있습니다.
반도체-마이크로일렉트로닉스, 세계의 CVD 시장 선도
세계 화학기상증착(CVD) 시장에서 가장 큰 점유율을 차지하고 있는 분야는 반도체 및 마이크로일렉트로닉스 분야로, CVD 공정은 반도체 산업에서 기판 위에 얇은 재료 필름을 제조하는 데 사용됩니다. 이 공정을 통해 물체의 전기 절연성을 높이기 위해 사용되는 유전체 층과 전자 및 태양광발전 분야에서 사용되는 다결정 실리콘과 같은 중요한 부품을 제조할 수 있습니다. 이 공정은 트랜지스터의 동작과 성능을 향상시키는 데 필수적이며, 반도체 및 마이크로 전자 분야에서의 CVD 시장 확대에 기여하고 있습니다.
아시아태평양이 세계 화학 기상 증착(CVD) 시장을 주도하고 있습니다.
아시아태평양(APAC)은 세계 화학 기상 증착(CVD) 시장을 독점하고 있습니다. 중국, 인도, 대만 등 APAC의 주요 국가들은 태양전지판, 전자제품, 반도체 등 다양한 분야에서 화학 기상 증착(CVD) 공정을 널리 채택하고 있습니다. 또한 이 지역의 CVD 시장은 에너지 효율성과 적응성이 높은 고성능 LED에 대한 수요 증가로 인해 예측 기간 중 높은 성장세를 보일 것으로 예상됩니다.
경쟁 구도
세계의 화학기상증착(CVD) 시장의 주요 기업에는 CVD Equipment Corporation, Tokyo Electron Limited, IHI Corporation, Veeco Instruments Inc., ASM International N.V., Plasma-Therm LLC, Applied Materials, Inc., OC Oerlikon Management AG, voestalpine AG, ULVAC Inc., Aixtron SE, Taiyo Nippon Sanso Corporation, LPE, Nuflare Technology Inc., RIBER, AccuSputtering Ltd, United Technology & Industrial Solutions 등이 있습니다. 많은 기업이 시장 점유율을 확보하기 위해 경쟁하고 있으며, 시장 경쟁이 치열해지고 있습니다.
이러한 기업은 인수합병, 파트너십, 합작투자, 라이선스 계약, 신제품 출시 등 다양한 전략을 통해 시장 점유율을 더욱 확대하기 위해 노력하고 있습니다.
이 보고서는 세계 화학기상증착(CVD) 시장의 성장 잠재력, 미래 동향, 세계 화학기상증착(CVD) 시장에 대한 심층 분석을 제공합니다. 또한 전체 시장 규모 예측을 촉진하는 요인도 다루고 있습니다. 이 보고서는 세계 화학 기상 증착(CVD) 시장의 최신 기술 동향과 의사결정자가 올바른 전략적 의사결정을 내릴 수 있는 업계 인사이트을 제공하기 위해 작성되었습니다. 또한 시장 성장 동인, 과제, 경쟁력에 대한 분석도 함께 제공합니다.
Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market Size Set to Cross USD 51 Billion by 2031
Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market is flourishing because of the increased demand for semiconductors and rising adoption of advanced coatings.
BlueWeave Consulting, a leading strategic consulting and market research firm, in its recent study, estimated Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market size at USD 32 billion in 2024. During the forecast period between 2025 and 2031, BlueWeave expects Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market size to expand at a CAGR of 7.20% reaching a value of USD 51.20 billion by 2031. A spurring demand for semiconductor chips as a result of expanding electronic device manufacturing is one of the main factors driving Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. As consumers' disposable income rises, a robust market for electrical and electronic devices is created, which increases the need for semiconductor fabrication and, ultimately, the demand for chemical vapor deposition (CVD) technology.
Opportunity - Extensive Research and Development Programs
The expanding demand for chemical vapor deposition (CVD) across various sectors is expected to drive funding for research and development activities from both public and private players. Research conducted recently focused on improving the step coverage (SC) in chemical vapor deposition through the addition of heavy inert gas co-flow, as published in Nature Communications. Another study published in ACS Publications explored the potential application of the CVD method for the large-scale production of ultrahigh-purity tungsten parts with a lower dislocation density and internal strain on parts compared to conventional powder metallurgy techniques. Such research is projected to present lucrative growth opportunities for chemical vapor deposition (CVD) across various industries, driving its overall market growth.
Impact of Escalating Geopolitical Tensions on Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market
Intensifying geopolitical tensions could hinder the growth of Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. Military and political tensions cause production delays and higher prices for CVD equipment due to supply chain disruptions for essential raw materials like rare earth elements. Trade restrictions or tariffs also obstruct the operations of its main end-user sectors, like the semiconductor industry, and have an impact on the flow of necessary components, such as gases, substrates, and equipment. Furthermore, political unpredictability and volatility may discourage businesses from long-term investments in CVD infrastructure or technology, particularly in areas where geopolitical risks are directly present.
Semiconductor & Microelectronics Lead Global CVD Market
The semiconductor & microelectronics segment holds the largest share of Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. CVD methods are used in the semiconductor industry to produce thin material films on substrates. This process makes it possible to produce vital parts such dielectric layers, which are employed to increase an object's electrical insulation, and polycrystalline silicon, which is utilized in the electronics and solar photovoltaic sectors. The procedure is crucial for improving transistor behavior and performance, which propels the market expansion for CVD in the semiconductor and microelectronics sector.
Asia Pacific Leads Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market
Asia Pacific (APAC)_ dominates Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. because of the region's thriving electronic manufacturing industry. In major APAC nations like China, India, and Taiwan, the chemical vapor deposition (CVD) process is extensively employed in a variety of sectors, such as solar panels, electronics, and semiconductors. Additionally, it is anticipated that the region's CVD market would be driven during the forecast period by the rising demand for high-performance LEDs due to their energy efficiency and adaptability.
Competitive Landscape
Major companies in Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market include CVD Equipment Corporation, Tokyo Electron Limited, IHI Corporation, Veeco Instruments Inc., ASM International N.V., Plasma-Therm LLC, Applied Materials, Inc., OC Oerlikon Management AG, voestalpine AG, ULVAC Inc., Aixtron SE, Taiyo Nippon Sanso Corporation, LPE, Nuflare Technology Inc., RIBER, AccuSputtering Ltd, and United Technology & Industrial Solutions. The presence of a high number of companies intensify the market competition as they compete to gain a significant market share.
These companies employ various strategies, including mergers and acquisitions, partnerships, joint ventures, license agreements, and new product launches to further enhance their market share.
The in-depth analysis of the report provides information about growth potential, upcoming trends, and Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. It also highlights the factors driving forecasts of total market size. The report promises to provide recent technology trends in Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market and industry insights to help decision-makers make sound strategic decisions. Furthermore, the report also analyzes the growth drivers, challenges, and competitive dynamics of the market.
*Financial information of non-listed companies can be provided as per availability.
**The segmentation and the companies are subject to modifications based on in-depth secondary research for the final deliverable.