웨이퍼 세정 장비 시장 - 산업 규모, 점유율, 동향, 기회 및 예측 : 장비 유형별, 웨이퍼 사이즈별, 기능별, 용도별, 지역별 경쟁(2021-2031년)
Wafer Cleaning Equipment Market - Global Industry Size, Share, Trends, Opportunity, and Forecast, Segmented By Equipment Type, By Wafer Size By Functions, By Application, By Region & Competition, 2021-2031F
상품코드 : 1901638
리서치사 : TechSci Research
발행일 : 2026년 01월
페이지 정보 : 영문 180 Pages
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한글목차

세계의 웨이퍼 세정 장비 시장은 2025년 72억 3,000만 달러에서 2031년까지 114억 2,000만 달러에 달하고, CAGR 7.92%를 보일 것으로 예측됩니다.

웨이퍼 세정 장비는 반도체 웨이퍼 표면에서 미립자, 유기 오염물질, 금속 잔류물 등의 불순물을 제거하면서 섬세한 회로 패턴을 손상시키지 않도록 설계된 특수 정밀 기계로 구성되어 있습니다. 이 시장은 미세화가 진행되는 트랜지스터 구조로의 구조적 전환과 인공지능 칩용 대량생산 확대에 의해 근본적으로 지원되고 있으며, 이들은 수율 신뢰성을 확보하기 위해 절대적인 표면 무결성을 필요로 합니다.

시장 개요
예측 기간 2027-2031년
시장 규모 : 2025년 72억 3,000만 달러
시장 규모 : 2031년 114억 2,000만 달러
CAGR : 2026-2031년 7.92%
가장 빠르게 성장하는 부문 싱글 웨이퍼 스프레이 시스템
가장 큰 시장 북미

주요 시장 성장 촉진요인

반도체 노드 미세화와 3D 구조 진화에 따라 기기 성능과 제조 수율을 유지하기 위해서는 고정밀 오염물 제거 전략이 필수적입니다. 제조업체가 게이트 올 어라운드 및 수직형 3D NAND 구조와 같은 복잡한 트랜지스터 설계로 이동함에 따라 높은 종횡비 구조에서 치명적인 결함을 방지하기 위해 필요한 세척 공정 수가 증가하고 있습니다.

주요 시장 과제

첨단 노드에서 높은 종횡비 구조의 세정과 관련된 기술적 복잡성은 웨이퍼 세정 장비 시장의 확대에 큰 장벽이 되고 있습니다. 반도체 아키텍처가 점점 더 취약한 설계로 전환하는 동안 효과적인 불순물 제거에 필요한 물리적 힘은 구조 붕괴와 패턴 손상을 일으킬 위험을 높입니다.

주요 시장 동향

반도체 제조업체가 수율 향상과 병행하여 환경 지속가능성이나 규제 준수를 우선하는 가운데, 황산 미사용 및 그린 세정 화학약품의 채용이 중요한 동향이 되고 있습니다. 황산 및 과산화물과 같은 강력한 용매에 크게 의존하는 기존의 프로토콜과는 달리, 이러한 전환은 유해 폐기물 처리 비용을 최소화하고 업계의 탄소 실적을 줄이는 무해한 생분해성 대체품 사용에 초점을 맞추었습니다.

목차

제1장 개요

제2장 조사 방법

제3장 주요 요약

제4장 고객의 목소리

제5장 세계의 웨이퍼 세정 장비 시장 전망

제6장 북미의 웨이퍼 세정 장비 시장 전망

제7장 유럽의 웨이퍼 세정 장비 시장 전망

제8장 아시아태평양의 웨이퍼 세정 장비 시장 전망

제9장 중동 및 아프리카의 웨이퍼 세정 장비 시장 전망

제10장 남미의 웨이퍼 세정 장비 시장 전망

제11장 시장 역학

제12장 시장 동향과 발전

제13장 세계의 웨이퍼 세정 장비 시장 : SWOT 분석

제14장 Porter's Five Forces 분석

제15장 경쟁 구도

제16장 전략적 제안

제17장 기업 소개와 면책사항

JHS
영문 목차

영문목차

The Global Wafer Cleaning Equipment Market will grow from USD 7.23 Billion in 2025 to USD 11.42 Billion by 2031 at a 7.92% CAGR. Wafer cleaning equipment comprises specialized precision machinery designed to eliminate impurities such as particulate matter, organic contaminants, and metallic residues from semiconductor wafer surfaces without damaging delicate circuit patterns. The market is fundamentally supported by the structural shift toward increasingly miniaturized transistor architectures and the expansion of high-volume manufacturing for artificial intelligence chips, which necessitate absolute surface integrity to ensure yield reliability.

Market Overview
Forecast Period2027-2031
Market Size 2025USD 7.23 Billion
Market Size 2031USD 11.42 Billion
CAGR 2026-20317.92%
Fastest Growing SegmentSingle-Wafer Spray Systems
Largest MarketNorth America

Key Market Drivers

The miniaturization of semiconductor nodes and the evolution of 3D architectures necessitate highly precise contaminant removal strategies to maintain device performance and manufacturing yields. As manufacturers transition to complex transistor designs like Gate-All-Around and vertical 3D NAND structures, the number of required cleaning steps increases to prevent fatal defects in high-aspect-ratio features. This technological imperative is driven by the rapid adoption of advanced logic nodes which require pristine surface integrity for functioning.

Key Market Challenges

The technical complexity associated with cleaning high-aspect-ratio features at advanced nodes presents a substantial barrier to the expansion of the wafer cleaning equipment market. As semiconductor architectures transition to increasingly fragile designs, the physical force required for effective impurity removal carries a heightened risk of causing structural collapse or pattern damage. This fragility forces manufacturers to invest in highly specialized, non-destructive cleaning technologies, which significantly increases development costs and lengthens the time required to validate new machinery for mass production.

Key Market Trends

The adoption of Sulfuric-Acid-Free and Green Cleaning Chemistries has become a critical trend as semiconductor manufacturers prioritize environmental sustainability and regulatory compliance alongside yield enhancement. Unlike traditional protocols heavily reliant on aggressive solvents like sulfuric acid and peroxides, this shift focuses on utilizing benign, biodegradable alternatives that minimize hazardous waste treatment costs and reduce the industry's carbon footprint. This transition is not merely experimental but is being operationalized at scale to meet stringent global environmental standards.

Key Market Players

Report Scope:

In this report, the Global Wafer Cleaning Equipment Market has been segmented into the following categories, in addition to the industry trends which have also been detailed below:

Wafer Cleaning Equipment Market, By Wafer Size:

Wafer Cleaning Equipment Market, By Functions:

Wafer Cleaning Equipment Market, By Application:

Wafer Cleaning Equipment Market, By Region:

Competitive Landscape

Company Profiles: Detailed analysis of the major companies present in the Global Wafer Cleaning Equipment Market.

Available Customizations:

Global Wafer Cleaning Equipment Market report with the given market data, TechSci Research offers customizations according to a company's specific needs. The following customization options are available for the report:

Company Information

Table of Contents

1. Product Overview

2. Research Methodology

3. Executive Summary

4. Voice of Customer

5. Global Wafer Cleaning Equipment Market Outlook

6. North America Wafer Cleaning Equipment Market Outlook

7. Europe Wafer Cleaning Equipment Market Outlook

8. Asia Pacific Wafer Cleaning Equipment Market Outlook

9. Middle East & Africa Wafer Cleaning Equipment Market Outlook

10. South America Wafer Cleaning Equipment Market Outlook

11. Market Dynamics

12. Market Trends & Developments

13. Global Wafer Cleaning Equipment Market: SWOT Analysis

14. Porter's Five Forces Analysis

15. Competitive Landscape

16. Strategic Recommendations

17. About Us & Disclaimer

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