Stratistics MRC에 따르면, 세계 반도체 양면 노광기 시장은 예측 기간 동안 5.5%의 연평균 복합 성장률(CAGR)로 성장할 것으로 예상됩니다.
반도체 생산에 사용되는 전용 도구는 반도체용 양면 노광기로 알려져 있습니다. 이 장비는 웨이퍼의 포토레지스트 코팅된 표면에 복잡한 회로 패턴을 투사하기 위해 첨단 광학 장치와 광원을 사용합니다. 이 장비의 정확성과 효율성은 나노 단위의 특성과 정확한 정렬이 최첨단 전자 장치를 성공적으로 생산하기 위해 가장 중요한 반도체 제조에 요구되는 높은 기준을 유지하는 데 필수적입니다.
UMC에 따르면, 이 공장은 싱가포르에서 가장 진보된 반도체 파운드리 중 하나이며, 22nm와 28nm 칩을 생산할 예정입니다.
양면 노광기는 5G, 엣지 컴퓨팅, 전기 자동차 등 새로운 기술의 요구 사항을 충족하는 반도체를 생산할 수 있게 해줍니다. 이러한 지속적인 기술 발전은 자동차, 의료, 통신 등 다양한 산업에서 구현되고 있습니다. 또한, 이러한 용도에 필요한 고밀도, 고성능 칩을 제조하는 데 기여하며 시장 확대에 박차를 가하고 있습니다.
제조업체, 특히 중소기업은 이러한 첨단 시스템의 자본 집약적 특성으로 인해 재정적 어려움에 직면해 있습니다. 제한된 경쟁은 가격 상승의 원인이 될 수 있습니다. 또한 현재 진행중인 기술 발전의 광범위한 채택은 업계의 비용 민감도 및 요구 사항에 따라 감소 할 수 있으며 시장 성장에 큰 장애물이 될 수 있습니다.
반도체 층이 수직으로 적층된 3D 입체 집적회로(IC)는 웨이퍼의 양면을 동시에 정확하게 노광해야 합니다. 머신러닝과 인공지능을 노광기에 통합하면 정렬 정확도, 오류 감지 및 수정 정확도를 향상시킬 수 있습니다. 또한, 이러한 기술은 전반적인 생산성을 향상시키고, 성능 향상과 소형화를 위해 3D IC에 대한 의존도가 높아지고 있는 진화하는 전자 산업 수요에 부응하여 시장 확대를 주도하고 있습니다.
특허 분쟁은 신제품 개발 및 시장 개척을 지연시키는 원인이 됩니다. 이러한 기계에 포함된 복잡한 기술은 특허 분쟁과 법적 문제에 영향을 받기 쉽다. 법적 모호성은 투자자와 제조업체에게 어려운 환경을 조성하고 제품 가격, 수익성 및 규제 당국의 잠재적인 저항에 영향을 미쳐 시장 잠재력에 영향을 미칩니다. 또한 지적재산권에 대한 우려는 업계 간 협력과 인수를 감소시켜 시장 확대를 저해할 수 있습니다.
반도체용 양면 노광기 시장은 코로나19 사태로 인해 부정적인 영향을 받았습니다. 제조 공정은 잠금 및 제한, 인력 확보 중단, 원격 근무의 어려움, 건강 문제 등의 영향을 받아 첨단 장비의 개발 및 배치가 지연되거나 비효율적으로 진행되었습니다. 또한, 여행 제한으로 인해 국제 협력과 설치가 어려워졌고, 일부 기업은 경제적 문제로 인해 확장 프로젝트를 연기하거나 중단해야 했습니다.
반자동 부문이 가장 큰 점유율을 차지할 것으로 추정됩니다. 반자동 장비는 노출 공정의 정확성과 효율성을 높이기 위한 자동화 기능을 포함한 고도의 자동화 기능과 수동 제어를 결합하여 어느 정도의 유연성과 인적 제어를 제공하는 장비를 말합니다. 기술의 발전과 함께 이러한 장비는 계속 진화하고 있으며, 맞춤형 및 적응형 공정을 원하는 반도체 제조업체를 위해 정확성, 속도 및 전반적인 성능을 향상시키는 기술을 비용 효율적인 솔루션에 통합하여 이 부문의 확장을 촉진하고 있습니다.
포토리소그래피 분야는 복잡한 회로 패턴을 반도체 웨이퍼에 정확하게 전사하는 데 필요한 장치를 다루기 때문에 예측 기간 동안 가장 높은 CAGR을 기록할 것으로 예상되며, EUV 리소그래피, 고해상도 이미징, 첨단 반도체 장치와 같은 여러 패터닝 기술의 발전으로 인해 가장 높은 CAGR을 기록할 것으로 예상된다, 통신 및 전자제품에서 인공지능 및 사물 인터넷과 같은 신기술에 이르기까지 다양한 응용 분야에 필수적입니다. 또한, 이러한 장치는 웨이퍼의 양면에 동시에 정확한 정렬과 노출을 보장하기 위해 첨단 광학 기술을 사용하여 시장 성장에 큰 기여를 하고 있습니다.
유럽은 반도체 생산에 영향을 미치는 정부 법률 및 규정으로 인해 예측 기간 동안 가장 큰 시장 점유율을 차지했습니다. 유럽연합(EU)은 연구, 기술, 혁신을 우선시하며 반도체 산업 발전에 유리한 환경을 조성하고 있습니다. 독일, 영국, 네덜란드와 같은 국가들이 반도체 기술 개발의 최전선에 있습니다. 정부 프로그램과 학계 및 업계 관계자들의 협력은 이 지역의 반도체 기술 혁신의 리더십에 기여하고 있으며, 이는 이 지역의 성장을 가속하고 있습니다.
북미는 현대 반도체 연구, 자동화, 재료, 정밀 광학 분야의 지속적인 발전으로 인해 예측 기간 동안 가장 높은 CAGR을 보일 것으로 예상되며, Nikon Corporation, ASML Holding NV, Canon Inc. Electronics Equipment(Group) Co., Ltd. 등의 주요 기업들이 이 지역의 뛰어난 기술 개발에 기여하고 있습니다. 숙련된 전문가, 연구시설 및 기계로 구성된 강력한 생태계는 시장 확장을 주도하는 업계의 진화하는 요구에 부응하고 있습니다.
According to Stratistics MRC, the Global Double-Sided Exposure Machine for Semiconductor Market is accounted for growing at a CAGR of 5.5% during the forecast period. A specialized tool used in the production of semiconductors is known as double-sided exposure machine for semiconductors. It employs advanced optics and light sources to project intricate circuit patterns onto the photoresist-coated surfaces of the wafer. Its precision and efficiency are essential for maintaining the high standards required in semiconductor manufacturing, where nanoscale features and precise alignment are paramount for the successful production of cutting-edge electronic devices.
According to UMC, it would also be one of the most advanced semiconductor foundries in Singapore and will produce 22 nm and 28 nm chips.
Double-Sided Exposure Machines enable the fabrication of semiconductors that meet the requirements of these emerging technologies, including 5G, edge computing, and electric vehicles. These ongoing technological advancements are implemented in various industries, including automotive, healthcare, and communications. In addition, they contribute to the production of high-density and high-performance chips needed for these applications, which is boosting market expansion.
Manufacturers, especially smaller ones, face financial challenges due to the capital-intensive nature of these advanced systems. Limited competition can contribute to higher prices, as manufacturers may have more control over pricing in the absence of extensive alternatives. In addition, the widespread adoption of ongoing technological advancements may be decreased by the industry's cost sensitivity and requirements, which significantly hamper the market's growth.
3D three-dimensional integrated circuits (ICs), with vertically stacked semiconductor layers, demand precise and simultaneous exposure on both sides of wafers. Incorporating machine learning and artificial intelligence into exposure machines can contribute to better alignment accuracy, error detection, and correction. Additionally, these technologies aimed at improving overall productivity, meeting the demands of an evolving electronics industry that increasingly relies on 3D ICs for improved performance and miniaturization, thereby driving market's expansion.
Patent disputes can cause delays in new product development and market launches. The complex technologies involved in these machines make them susceptible to patent disputes and legal challenges. Legal ambiguities affect the market's potential by creating a difficult environment for investors and manufacturers, influencing product pricing, profitability, and potential resistance from regulatory authorities. Furthermore, IP concerns may also decrease industry-player collaboration or acquisitions, which can hinder market expansion.
The market for double-sided exposure machines for semiconductors was adversely affected by the COVID-19 pandemic. Manufacturing processes were impacted by lockdowns and restrictions, disruptions to workforce availability, remote work challenges, and health concerns, which contributed to delays and inefficiencies in the development and deployment of advanced machinery. Additionally, travel restrictions made it more difficult to collaborate and install internationally, and economic challenges prompted some companies to delay or cancel expansion projects, which thereby hampered market growth.
The semi automatic segment is estimated to hold the largest share. It refers to equipment that combines advanced automation features with manual control including automated features to improve accuracy and exposure process efficiency, providing a certain amount of flexibility and human control. As technology advances, these machines continue to evolve, incorporating technologies to enhance precision, speed, and overall performance with cost-effective solutions for semiconductor manufacturers seeking customizable and adaptable processes which are boosting this segment expansion.
The photolithography segment is anticipated to have highest CAGR during the forecast period, due to it deals with devices that are necessary for accurately transferring complex circuit patterns onto semiconductor wafers. Advancements in multiple patterning techniques, such as EUV lithography, high-resolution imaging, and advanced semiconductor devices are essential for a wide range of applications, from telecommunications and electronics to emerging technologies like artificial intelligence and the Internet of Things. In addition, these devices use sophisticated optical methods to simultaneously assure precise alignment and exposure on both sides of the wafer which significantly drive market's growth.
Europe commanded the largest market share during the extrapolated period owing to government laws and regulations that affect the production of semiconductors. The European Union prioritizes research, technology, and innovation, creating an environment that is favorable for advancements in the semiconductor industry. Countries like Germany, the United Kingdom, and the Netherlands are at the forefront of semiconductor technology development. Government programs and collaborations between academic institutions and industry players contribute to the region's leadership in semiconductor innovation and thereby boosting the region's growth.
North America is expected to witness highest CAGR over the projection period, owing to modern semiconductor research and ongoing developments in automation, materials, and precision optics. Some of the major key players including Nikon Corporation, ASML Holding NV, Canon Inc. and Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. are contributing in developing the region's technological excellence. Strong ecosystem of skilled professionals and research facilities, machines, are meeting the evolving needs of the industry which are propelling the market expansion.
Some of the key players in the Double-Sided Exposure Machine for Semiconductor Market include ORC Manufacturing, Ushio Lighting, Csun, Canon Inc, Orbotech Ltd., Neutronix Quintel, Idonus Sarl, Seimyung Vactron, Adtec Engineering and ASML Holding N.V.
In November 2023, Neutronix-Quintel, Inc., a leading provider of production photolithography equipment, announced the introduction of the NxQ 8000 CT mask aligner to be used for advanced applications.
In October 2023, Canon, a leader in production inkjet presses, announced a technology preview of the Canon varioPRINT iX1700, a new 170 A4 images per minute, sheetfed inkjet press, at Canon Expo in Yokohama, Japan.
In September 2023, Independent visual content provider, EPA Images, announced a five-year partnership with Canon Europe to renew and update its photography and videography equipment to confront the challenges in a changing world.