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원자층 증착 장비 시장 보고서 : 제품, 용도, 지역별(2025-2033년)
Atomic Layer Deposition Equipment Market Report by Product (Metal ALD, Aluminum Oxide ALD, Plasma Enhanced ALD, Catalytic ALD, and Others), Application (Semiconductors, Solar Devices, Electronics, Medical Equipment, and Others), and Region 2025-2033
상품코드 : 1702100
리서치사 : IMARC
발행일 : 2025년 04월
페이지 정보 : 영문 142 Pages
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한글목차

원자층 증착 장비 세계 시장 규모는 2024년 75억 달러에 달했습니다. 향후 IMARC Group은 2033년까지 시장 규모가 242억 달러에 달하고, 2025-2033년 연평균 성장률(CAGR)은 13.92%를 보일 것으로 예측하고 있습니다.

원자층 증착법(ALD)은 기체상법으로, 교대로 변화하는 전구체에 노출시킨 후 기판 위에 초박막을 증착시키는 방법입니다. 일반적으로 사용되는 장비에는 박판형 웨이퍼, 배치형, 플라즈마형, 대형 기판용 ALD 반응기, 박막전계발광(TFEL) 디스플레이, 기타 전자 부품 등이 있습니다. 이러한 장비는 두께를 제어하여 균일성을 보장하고, 저항, 전도성, 강도 등 기판의 다양한 특성을 개선하거나 변경하는 데 도움이 됩니다. 이러한 특성으로 인해 반도체, 전자기기, 광학기기, 연료전지, 열전재료 등에 사용되고 있습니다. 현재 원자층 증착 장비는 금속, 플라즈마 강화형, 알루미늄 산화물형, 촉매형 등 다양한 유형이 시판되고 있습니다.

원자층 증착 장비 시장 동향 :

다양한 연구개발(R&D) 시설, 헬스케어, 태양전지 분야에서 ALD 장비가 널리 채택되어 기능성을 향상시키고 더 높은 정밀도를 제공하는 유연한 툴에 대한 요구가 증가하고 있는 것이 시장 개척의 원동력이 되고 있습니다. 이에 따라 데이터 스토리지, 소형 전자 부품, 디스플레이 장치 등 다양한 제품을 성막하기 위한 전자 재료의 소형화, 반도체, 전력 관리 시스템에 대한 수요 증가가 시장 성장에 기여하고 있습니다. 또한 집적회로(IC), 칩, 광 스위치, 센서, 컴퓨터 등 미세전자기계시스템(MEMS) 제품 제조에 원자층 증착 장비가 활용되고 있는 것도 시장 성장에 기여하고 있습니다. 이와 함께, 기술 발전으로 복잡한 3D 나노 구조의 균일성과 적합성을 보장하기 위해 플렉서블 일렉트로닉스 및 3D(3차원) 인쇄 반응기를 위한 공간 ALD가 도입된 것도 성장을 가속하는 요인으로 작용하고 있습니다. 또한, 체내 삽입형, 스마트워치, 스마트폰, 의료기기 증가로 인해 고체 박막 전지에 대한 요구가 증가하고 있는 것도 시장 성장에 기여하고 있습니다. 이와는 별도로, 플라즈마 강화 ALD 출시를 위한 주요 기업들 간의 전략적 제휴가 시장에 긍정적인 전망을 가져오고 있습니다.

본 보고서에서 다룬 주요 질문

목차

제1장 서문

제2장 조사 범위와 조사 방법

제3장 주요 요약

제4장 서론

제5장 세계의 원자층 증착 장비 시장

제6장 시장 분석 : 제품별

제7장 시장 분석 : 용도별

제8장 시장 분석 : 지역별

제9장 SWOT 분석

제10장 밸류체인 분석

제11장 Porter의 Five Forces 분석

제12장 가격 분석

제13장 경쟁 구도

LSH
영문 목차

영문목차

The global atomic layer deposition equipment market size reached USD 7.5 Billion in 2024. Looking forward, IMARC Group expects the market to reach USD 24.2 Billion by 2033, exhibiting a growth rate (CAGR) of 13.92% during 2025-2033.

Atomic layer deposition (ALD) refers to a vapor phase technique that is deployed for depositing ultra-thin films on top of a substrate after getting exposed to alternating precursors. Some of the commonly used equipment includes single wafer, batch, plasma, large substrate ALD reactors, thin-film electroluminescent (TFEL) displays and other electronic components. These tools help in ensuring uniformity by controlling the thickness and improving or modifying various properties of substrates, including resistance, conductivity, and strength. On account of these properties, it is used in semiconductors, electronics, optical devices, fuel cells and thermoelectric materials. At present, atomic layer deposition equipment is commercially available in varying types, such as metal, plasma-enhanced, aluminum oxide, and catalytic.

Atomic Layer Deposition Equipment Market Trends:

The widespread adoption of ALD equipment across various research and development (R&D) facilities, healthcare, and solar sector on account of the increasing need for flexible tools to improve functionality and offer higher accuracy is primarily driving the market growth. In line with this, the rising demand for miniaturization, semiconductors, and power management systems in electronic materials for depositing various products, including data storage, small electronic components and display devices are further contributing to the market growth. This is further supported by the utilization of atomic layer deposition equipment for manufacturing integrated circuits (IC), chips, and micro-electromechanical systems (MEMS) products, such as optical switches, sensors, and computers. In line with this, significant technological advancements have led to the introduction of spatial ALD for flexible electronics and three-dimensional (3D) printed reactors to ensure uniformity and conformity of complex 3D nanostructures, which is acting as another growth-inducing factor. Additionally, the escalating requirement for solid-state thin-film batteries due to the increasing uptake of implantable, smartwatches, smartphones and medical equipment is contributing to the market growth. Apart from this, strategic collaborations amongst key players for launching plasma-enhanced ALD are creating a positive outlook for the market.

Key Market Segmentation:

Breakup by Product:

Breakup by Application:

Breakup by Region:

Competitive Landscape:

The competitive landscape of the industry has also been examined along with the profiles of the key players being Arradiance LLC, ASM International, Beneq Oy, CVD Equipment Corporation, Forge Nano Inc., Kurt J. Lesker Company, Lam Research Corporation, Oxford Instruments plc, Picosun Oy (Applied Materials Inc.), SENTECH Instruments GmbH, Veeco Instruments Inc., Wonik IPS Co. Ltd. and Tokyo Electron Limited.

Key Questions Answered in This Report

Table of Contents

1 Preface

2 Scope and Methodology

3 Executive Summary

4 Introduction

5 Global Atomic Layer Deposition Equipment Market

6 Market Breakup by Product

7 Market Breakup by Application

8 Market Breakup by Region

9 SWOT Analysis

10 Value Chain Analysis

11 Porters Five Forces Analysis

12 Price Analysis

13 Competitive Landscape

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