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세계의 반도체용 ALD 및 CVD 전구체 시장
ALD and CVD Precursor for Semiconductors
상품코드 : 1744947
리서치사 : Global Industry Analysts, Inc.
발행일 : 2025년 06월
페이지 정보 : 영문 285 Pages
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한글목차

세계의 반도체용 ALD 및 CVD 전구체 시장은 2030년까지 21억 달러에 이를 전망

2024년에 14억 달러로 추정되는 반도체용 ALD 및 CVD 전구체 세계 시장은 분석 기간2024-2030년에 CAGR 7.1%로 성장하여 2030년에는 21억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 본 보고서에서 분석한 부문 중 하나인 실리콘 전구체는 CAGR5.4%를 나타내고, 분석 기간 종료시에는 9억 1,710만 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 티타늄 전구체 부문의 성장률은 분석 기간에 CAGR 8.9%로 추정됩니다.

미국 시장은 3억 8,460만 달러로 추정, 중국은 CAGR 10.8%로 성장 예측

미국의 반도체용 ALD 및 CVD 전구체 시장은 2024년에 3억 8,460만 달러로 추정됩니다. 세계 2위 경제대국인 중국은 분석 기간인 2024-2030년간 CAGR 10.8%로 2030년까지 4억 3,900만 달러 규모에 이를 것으로 예측됩니다. 기타 주목해야 할 지역별 시장으로서는 일본과 캐나다가 있으며, 분석 기간중 CAGR은 각각 3.7%와 6.8%를 보일 것으로 예측됩니다. 유럽에서는 독일이 CAGR 4.6%를 보일 전망입니다.

반도체용 ALD 및 CVD 전구체 세계 시장 - 주요 동향과 촉진요인 정리

ALD와 CVD 전구체가 첨단 노드 제조 및 3D 디바이스 아키텍처에 필수적인 이유는 무엇인가?

원자층 증착(ALD)과 화학 기상 성장(CVD)은 반도체 제조의 기초가 되는 박막 기술로서, 원자 단위의 정밀하고 컨포멀한 재료의 코팅을 가능하게 하는 ALD/CVD 전구체(제어된 온도에서 분해 또는 반응하는 유기 금속 또는 무기 화합물)는 게이트 절연막, 금속 상호 연결, 확산 장벽 및 패터닝 하드 마스크를 위한 고성능 층을 형성하는 데 매우 중요합니다. 금속 상호연결, 확산 장벽 및 패터닝 하드마스크용 고성능 층을 형성하는 데 매우 중요합니다. 이러한 막은 트랜지스터 스케일링, 유전체 절연, 패키징 통합, 로직, 메모리, 전력 소자 전반에 걸쳐 트랜지스터 스케일링, 유전체 절연, 패키징의 중심이 되고 있습니다.

업계가 5nm 이하 노드와 복잡한 3D 아키텍처(FinFET, GAA, 3D NAND)로 전환함에 따라, 프리카사의 역할은 전통적인 증착에서 원자 수준의 재료 공학으로 확대되고 있습니다. 분자 설계는 막의 균일성, 스텝 커버리지, 증착 온도, 전기적 특성에 직접적인 영향을 미치며, 반도체 제조의 성능, 수율, 스케일링 목표를 달성하는 데 필수적인 요소로 작용합니다.

첨단 성막 요구 사항을 충족시키기 위해 전구체 화학 및 공급 시스템은 어떻게 진화하고 있는가?

전구체의 재료 혁신은 공정별 조건에서 열 안정성, 휘발성, 반응성 개선이 중심이 되고 있습니다. 고순도, 균일성, 원자 수준의 정밀도로 금속(예: Co, Ru, Ti, W) 및 유전체(예: HfO2, Al2O3, SiN)를 고순도, 균일성, 원자 수준의 정밀도로 증착하기 위해 조정된 리간드, 유기 금속 골격 및 이종 복합체가 설계됩니다. 전구체 배합은 플라즈마 강화, 저온 또는 선택적 증착의 이용 사례에 따라 점점 더 맞춤화되고 있습니다.

마찬가지로 중요한 것은 초순수(UHP) 저장 용기, 실시간 유량 제어기, 온도 제어 기화기 등의 프리커서 공급 시스템의 발전으로 고진공 환경에서 안정적인 오염 없는 공급을 보장하는 것입니다. 펄스 프리커서의 도입이 효과적이지만, CVD 시스템에서는 연속적인 흐름 역학이 중요합니다. 프리커서 합성 및 패키징의 혁신은 결함 위험을 줄이고 대량 생산에 필수적인 반복 가능한 고처리량 증착을 가능하게 합니다.

ALD 및 CVD 전구체 수요 증가를 주도하는 반도체 응용 분야 및 시장 부문은 무엇인가?

로직 공장과 메모리 공장은 ALD와 CVD 전구체, 특히 HKMG, 층간 절연막(ILD), 첨단 에칭 스톱층에 대한 ALD와 CVD 전구체의 최대 수요처이며, 3D NAND와 DRAM의 미세화로 인해 트렌치 및 스택 아키텍처의 고종횡비 적합성에 대한 필요성이 증가하고 있습니다. CVD는 라이너/배리어층, 스페이서 성막, BEOL(back-end-of-line) 공정의 저유전율 절연막에서 우위를 점하고 있습니다.

팬아웃 웨이퍼 레벨 패키징(FOWLP)과 실리콘 관통전극(TSV)을 포함한 첨단 패키징은 웨이퍼 레벨의 절연층과 금속화 층의 신뢰성 높은 성막을 필요로 하는 급성장 분야로 부상하고 있습니다. 지역별 수요는 대만, 한국, 중국, 중국, 일본 등 주요 파운드리 및 메모리 공장이 위치한 아시아태평양이 주도하고 있으며, 로직 노드 및 AI 가속기를 위한 R&D 및 파일럿 규모 생산이 로직 노드 및 AI 가속기를 위한 고사양 프리커서 수요를 견인하는 북미와 유럽이 그 뒤를 잇고 있습니다.

지속가능성, 순도 기준, 공급망 압력이 시장 혁신을 어떻게 형성하고 있는가?

환경 및 안전 규정은 환경 친화적인 프리카사 화학물질(독성이 낮고, 증기압이 낮으며, 증착 효율이 높은)로의 전환을 촉진하고 있습니다. 공급업체들은 무할로겐, 불소 프리, 그리고 클린룸 안전 프로토콜과 친환경 제조 목표에 부합하는 레거시 프리커서의 위험성이 낮은 대체품을 개발하고 있습니다. 프리커서의 재활용 및 용기 반환 프로그램을 포함한 수명주기 관리는 ESG 지표를 개선하고자 하는 팹의 지지를 받고 있습니다.

금속과 산소의 오염은 원자 단위의 층에서 장치의 성능에 심각한 영향을 미칠 수 있기 때문에 초순도와 추적성은 여전히 양보할 수 없는 과제입니다. 전 세계 팹의 생산량 증가에 따라 안전하고 고순도 프리카사공급에 대한 요구가 증가하고 있습니다. 지정학적 긴장과 원자재 제약으로 인해 프리카사공급이 어려워지면 반도체 제조업체들은 프리카사 공급망을 이중 소싱하고 현지화하며 재료 과학 기업과의 프리카사 개발 파트너십에 투자하게 될 것입니다.

ALD 및 CVD 전구체 시장의 성장 요인은 무엇인가?

ALD 및 CVD 전구체 시장은 첨단 노드의 미세화, 3D 디바이스의 대중화, 원자 단위의 정밀한 재료 성막에 대한 요구로 인해 급성장하고 있습니다. 주요 성장 촉진요인으로는 초박막 제어를 위한 ALD 활용 증가, 신흥 금속 및 유전체를 위한 새로운 전구체 처방, 메모리, 로직, 첨단 패키징 분야에서 수요 증가를 들 수 있습니다. 반도체 제조가 화학적으로 더욱 정교해짐에 따라, 프리카사는 성능, 신뢰성, 공정 혁신을 실현하는 고부가가치 인에이블러로 부상하고 있습니다.

향후 시장의 궤적은 서브나노미터 노드, 선택적 증착, 친환경 제조의 요구를 충족시키기 위해 프리카사 화학이 얼마나 효과적으로 진화할 수 있는지에 달려 있습니다. 원자 수준의 공정 제어가 반도체 발전의 기초가 되는 가운데, 다음 칩 성능 혁신의 물결은 리소그래피가 아닌 증착 전구체의 분자 설계에 의해 결정될 것인가?

부문

유형(실리콘 전구체, 티타늄 전구체, 지르코늄 전구체, 기타 유형), 용도(집적회로 칩, 플랫 패널 디스플레이, 태양전지, 기타 용도)

조사 대상 기업 예(총 42개사)

관세 영향 계수

Global Industry Analysts는 본사의 국가, 제조거점, 수출입(완제품 및 OEM)을 기반으로 기업의 경쟁력 변화를 예측했습니다. 이러한 복잡하고 다면적인 시장 역학은 인위적인 수익원가 증가, 수익성 감소, 공급망 재편 등 미시적 및 거시적 시장 역학 중에서도 특히 경쟁사들에게 영향을 미칠 것으로 예측됩니다.

Global Industry Analysts는 세계 주요 수석 이코노미스트(1,4,949명), 싱크탱크(62개 기관), 무역 및 산업 단체(171개 기관)의 전문가들의 의견을 면밀히 검토하여 생태계에 미치는 영향을 평가하고 새로운 시장 현실에 대응하고 있습니다. 모든 주요 국가의 전문가와 경제학자들이 관세와 그것이 자국에 미치는 영향에 대한 의견을 추적 조사했습니다.

Global Industry Analysts는 이러한 혼란이 향후 2-3개월 내에 마무리되고 새로운 세계 질서가 보다 명확하게 확립될 것으로 예상하고 있으며, Global Industry Analysts는 이러한 상황을 실시간으로 추적하고 있습니다.

2025년 4월: 협상 단계

이번 4월 보고서에서는 관세가 세계 시장 전체에 미치는 영향과 지역별 시장 조정에 대해 소개합니다. 당사의 예측은 과거 데이터와 진화하는 시장 영향요인을 기반으로 합니다.

2025년 7월: 최종 관세 재설정

고객님들께는 각 국가별 최종 리셋이 발표된 후 7월에 무료 업데이트 버전을 제공해 드립니다. 최종 업데이트 버전에는 명확하게 정의된 관세 영향 분석이 포함되어 있습니다.

상호 및 양자 간 무역과 관세의 영향 분석 :

미국 <>& 중국 <>& 멕시코 <>& 캐나다 <>&EU <>& 일본 <>& 인도 <>& 기타 176개국

업계 최고의 이코노미스트: Global Industry Analysts의 지식 기반은 국가, 싱크탱크, 무역 및 산업 단체, 대기업, 그리고 세계 계량 경제 상황의 전례 없는 패러다임 전환의 영향을 공유하는 분야별 전문가 등 가장 영향력 있는 수석 이코노미스트 그룹을 포함한 14,949명의 이코노미스트를 추적하고 있습니다. 16,491개 이상의 보고서 대부분에 마일스톤에 기반한 2단계 출시 일정이 적용되어 있습니다.

목차

제1장 조사 방법

제2장 주요 요약

제3장 시장 분석

제4장 경쟁

LSH
영문 목차

영문목차

Global ALD and CVD Precursor for Semiconductors Market to Reach US$2.1 Billion by 2030

The global market for ALD and CVD Precursor for Semiconductors estimated at US$1.4 Billion in the year 2024, is expected to reach US$2.1 Billion by 2030, growing at a CAGR of 7.1% over the analysis period 2024-2030. Silicon Precursor, one of the segments analyzed in the report, is expected to record a 5.4% CAGR and reach US$917.1 Million by the end of the analysis period. Growth in the Titanium Precursor segment is estimated at 8.9% CAGR over the analysis period.

The U.S. Market is Estimated at US$384.6 Million While China is Forecast to Grow at 10.8% CAGR

The ALD and CVD Precursor for Semiconductors market in the U.S. is estimated at US$384.6 Million in the year 2024. China, the world's second largest economy, is forecast to reach a projected market size of US$439.0 Million by the year 2030 trailing a CAGR of 10.8% over the analysis period 2024-2030. Among the other noteworthy geographic markets are Japan and Canada, each forecast to grow at a CAGR of 3.7% and 6.8% respectively over the analysis period. Within Europe, Germany is forecast to grow at approximately 4.6% CAGR.

Global ALD and CVD Precursors for Semiconductors Market - Key Trends & Drivers Summarized

Why Are ALD and CVD Precursors Essential to Advanced Node Fabrication and 3D Device Architecture?

Atomic Layer Deposition (ALD) and Chemical Vapor Deposition (CVD) are foundational thin-film technologies in semiconductor manufacturing, enabling precise, conformal coating of materials at the atomic scale. ALD/CVD precursors-organometallic or inorganic compounds that decompose or react at controlled temperatures-are critical in forming high-performance layers for gate dielectrics, metal interconnects, diffusion barriers, and patterning hardmasks. These films are central to transistor scaling, dielectric isolation, and packaging integration across logic, memory, and power devices.

As the industry transitions toward sub-5nm nodes and complex 3D architectures (FinFET, GAA, 3D NAND), the role of precursors has expanded from conventional deposition to atomic-level material engineering. Their molecular design directly influences film uniformity, step coverage, deposition temperature, and electrical properties-making them integral to achieving performance, yield, and scaling targets in semiconductor fabrication.

How Are Precursor Chemistry and Delivery Systems Evolving to Meet Advanced Deposition Requirements?

Material innovation in precursors is centered on improving thermal stability, volatility, and reactivity under process-specific conditions. Tailored ligands, metal-organic frameworks, and heteroleptic complexes are being engineered to deposit metals (e.g., Co, Ru, Ti, W) and dielectrics (e.g., HfO2, Al2O3, SiN) with high purity, uniformity, and atomic-level precision. Precursor formulations are increasingly customized for plasma-enhanced, low-temperature, or selective deposition use cases.

Equally important are advancements in precursor delivery systems-such as ultra-high purity (UHP) storage vessels, real-time flow controllers, and temperature-regulated vaporizers-that ensure stable and contamination-free delivery within high-vacuum environments. ALD processes benefit from pulsed precursor introduction with inert purging cycles, while CVD systems rely on continuous flow dynamics. Innovations in precursor synthesis and packaging are reducing defectivity risks and enabling repeatable, high-throughput deposition critical for high-volume manufacturing.

Which Semiconductor Applications and Market Segments Are Driving Growth in ALD and CVD Precursor Demand?

Logic and memory fabs are the largest consumers of ALD and CVD precursors, particularly for high-k/metal gate (HKMG), interlayer dielectrics (ILD), and advanced etch stop layers. The rise of 3D NAND and DRAM scaling has increased the need for high-aspect-ratio conformality in trench and stack architectures-where ALD is uniquely effective. CVD continues to dominate in liner/barrier layers, spacer deposition, and low-k dielectrics in BEOL (back-end-of-line) processes.

Advanced packaging, including fan-out wafer-level packaging (FOWLP) and through-silicon vias (TSVs), is emerging as a fast-growing segment, requiring reliable deposition of insulating and metallization layers at wafer-level scale. Regional demand is led by Asia-Pacific-home to major foundries and memory fabs in Taiwan, South Korea, China, and Japan-followed by North America and Europe, where R&D and pilot-scale production drive high-spec precursor demand for logic nodes and AI accelerators.

How Are Sustainability, Purity Standards, and Supply Chain Pressures Shaping Market Innovation?

Environmental and safety regulations are prompting a shift toward greener precursor chemistries-those with reduced toxicity, lower vapor pressure, and higher deposition efficiency. Suppliers are developing halogen-free, fluorine-free, and less hazardous alternatives to legacy precursors, aligned with cleanroom safety protocols and green manufacturing goals. Lifecycle management, including precursor recycling and container return programs, is gaining traction in fabs seeking to improve ESG metrics.

Ultra-high purity and traceability remain non-negotiable, as metal or oxygen contamination can severely impact device performance at atomic-scale layers. The need for secure, high-purity precursor supply is intensifying as global fabs ramp up production. Disruptions in precursor availability due to geopolitical tensions or raw material constraints have prompted semiconductor manufacturers to dual-source, localize precursor supply chains, and invest in precursor development partnerships with material science firms.

What Are the Factors Driving Growth in the ALD and CVD Precursors Market?

The ALD and CVD precursors market is expanding rapidly on the back of advanced node scaling, 3D device proliferation, and the need for atomically precise material deposition. Key growth drivers include increasing use of ALD for ultra-thin film control, new precursor formulations for emerging metals and dielectrics, and rising demand from memory, logic, and advanced packaging segments. As semiconductor manufacturing becomes more chemically sophisticated, precursors are emerging as high-value enablers of performance, reliability, and process innovation.

Looking ahead, the market’s trajectory will depend on how effectively precursor chemistries evolve to meet the demands of sub-nanometer nodes, selective deposition, and eco-efficient manufacturing. As atomic-level process control becomes the foundation of semiconductor advancement, could the next wave of innovation in chip performance be dictated not by lithography, but by the molecular design of deposition precursors?

SCOPE OF STUDY:

The report analyzes the ALD and CVD Precursor for Semiconductors market in terms of units by the following Segments, and Geographic Regions/Countries:

Segments:

Type (Silicon Precursor, Titanium Precursor, Zirconium Precursor, Other Types); Application (Integrated Circuit Chip, Flat Panel Display, Solar Photovoltaic, Other Applications)

Geographic Regions/Countries:

World; United States; Canada; Japan; China; Europe (France; Germany; Italy; United Kingdom; Spain; Russia; and Rest of Europe); Asia-Pacific (Australia; India; South Korea; and Rest of Asia-Pacific); Latin America (Argentina; Brazil; Mexico; and Rest of Latin America); Middle East (Iran; Israel; Saudi Arabia; United Arab Emirates; and Rest of Middle East); and Africa.

Select Competitors (Total 42 Featured) -

TARIFF IMPACT FACTOR

Our new release incorporates impact of tariffs on geographical markets as we predict a shift in competitiveness of companies based on HQ country, manufacturing base, exports and imports (finished goods and OEM). This intricate and multifaceted market reality will impact competitors by artificially increasing the COGS, reducing profitability, reconfiguring supply chains, amongst other micro and macro market dynamics.

We are diligently following expert opinions of leading Chief Economists (14,949), Think Tanks (62), Trade & Industry bodies (171) worldwide, as they assess impact and address new market realities for their ecosystems. Experts and economists from every major country are tracked for their opinions on tariffs and how they will impact their countries.

We expect this chaos to play out over the next 2-3 months and a new world order is established with more clarity. We are tracking these developments on a real time basis.

As we release this report, U.S. Trade Representatives are pushing their counterparts in 183 countries for an early closure to bilateral tariff negotiations. Most of the major trading partners also have initiated trade agreements with other key trading nations, outside of those in the works with the United States. We are tracking such secondary fallouts as supply chains shift.

To our valued clients, we say, we have your back. We will present a simplified market reassessment by incorporating these changes!

APRIL 2025: NEGOTIATION PHASE

Our April release addresses the impact of tariffs on the overall global market and presents market adjustments by geography. Our trajectories are based on historic data and evolving market impacting factors.

JULY 2025 FINAL TARIFF RESET

Complimentary Update: Our clients will also receive a complimentary update in July after a final reset is announced between nations. The final updated version incorporates clearly defined Tariff Impact Analyses.

Reciprocal and Bilateral Trade & Tariff Impact Analyses:

USA <> CHINA <> MEXICO <> CANADA <> EU <> JAPAN <> INDIA <> 176 OTHER COUNTRIES.

Leading Economists - Our knowledge base tracks 14,949 economists including a select group of most influential Chief Economists of nations, think tanks, trade and industry bodies, big enterprises, and domain experts who are sharing views on the fallout of this unprecedented paradigm shift in the global econometric landscape. Most of our 16,491+ reports have incorporated this two-stage release schedule based on milestones.

COMPLIMENTARY PREVIEW

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TABLE OF CONTENTS

I. METHODOLOGY

II. EXECUTIVE SUMMARY

III. MARKET ANALYSIS

IV. COMPETITION

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