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반도체용 실리카 유리 시장
Silica Glass for Semiconductors
상품코드 : 1758861
리서치사 : Market Glass, Inc. (Formerly Global Industry Analysts, Inc.)
발행일 : 2025년 06월
페이지 정보 : 영문 175 Pages
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한글목차

반도체용 실리카 유리 세계 시장은 2030년까지 12억 달러에 이를 전망

2024년에 7억 40만 달러로 추정되는 반도체용 실리카 유리 세계 시장은 2024-2030년 CAGR 9.2%로 성장하여 2030년에는 12억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 본 보고서에서 분석한 부문 중 하나인 고온 프로세스는 CAGR 10.4%를 나타내고, 분석 기간 종료시에는 8억 9,260만 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 저온 프로세스 분야의 성장률은 분석 기간중 CAGR 6.1%로 추정됩니다.

미국 시장은 1억 8,410만 달러로 추정, 중국은 CAGR 8.9%로 성장 예측

미국의 반도체용 실리카 유리 시장은 2024년에 1억 8,410만 달러로 추정됩니다. 세계 2위 경제대국인 중국은 2024-2030년의 분석 기간에 CAGR 8.9%로 성장을 지속하여, 2030년에는 1억 8,890만 달러 규모에 이를 것으로 예측됩니다. 기타 주목해야 할 지역별 시장으로서는 일본과 캐나다가 있으며, 분석 기간중 CAGR은 각각 8.6%와 7.7%를 보일 것으로 예측됩니다. 유럽에서는 독일이 CAGR 7.3%를 보일 전망입니다.

세계 '반도체용 실리카 유리' 시장 - 주요 동향 및 촉진요인 정리

실리카 유리가 반도체 제조에서 대체 불가능한 재료인 이유는 무엇인가?

실리카 유리는 특히 우수한 순도, 내열성 및 화학적 불활성 특성으로 인해 반도체 제조에서 중요한 역할을 하고 있습니다. 표준 유리와 달리 실리카 유리는 산화, 확산, 플라즈마 에칭과 같은 공정에서 사용되는 극한의 온도와 공격적인 화학적 성질을 견딜 수 있습니다. 열팽창 계수가 낮기 때문에 광범위한 열 사이클에서 치수 안정성이 보장되며, 이는 나노미터 단위의 특성을 다룰 때 매우 중요합니다. 실리카 유리의 반도체 응용 분야에는 석영 제품, 포토마스크 기판, 증착 챔버 윈도우, 웨이퍼 캐리어 등이 있습니다. 첨단 리소그래피, 특히 EUV(극자외선)에서 초순수 합성 실리카 유리는 우수한 투과율과 낮은 복굴절률로 인해 광학 부품 및 레티클 기판에 사용됩니다. 업계가 더 까다로운 형상, 더 높은 웨이퍼 처리량, 오염이 없는 환경으로 이동함에 따라 실리카 유리는 모든 제조 단계에서 정밀도와 공정 무결성을 뒷받침하는 필수적인 재료가 되었습니다.

초순화 및 제조의 발전은 실리카 유리의 표준을 어떻게 향상시키고 있는가?

노드 소형화 및 무결점 제조의 추진으로 불순물 수준이 ppm 이하인 초순도 및 저결함 실리카 유리에 대한 수요가 가속화되고 있습니다. 제조업체들은 용융 및 성형 공정을 발전시켜 수산기 함량을 제어하고, 기포 혼입을 제거하며, 광학 투명도 및 구조적 성능에 영향을 미칠 수 있는 미세 결함을 최소화하기 위해 노력하고 있습니다. 화염 가수분해 침전 및 전기 융합과 같은 기술은 매우 균질하고 자외선 투과율이 높은 합성 실리카 유리를 생산하기 위해 개선되었으며, CNC 가공 및 정밀 연마 기술을 통해 진공 및 고에너지 플라즈마 환경에 적합한 엄격한 공차와 표면 마감을 가진 맞춤형 석영 제품 부품을 만들 수 있습니다. 수율을 높일 수 있습니다. 미세한 오염도 수율에 영향을 미칠 수 있는 반도체 에칭 및 증착 장비에서는 입자 발생을 최소화하고 내화학성이 우수한 고급 실리카 부품이 선호되고 있습니다. 이러한 발전으로 실리카 유리는 수동적인 기판에서 가혹한 조건에서 안정성, 투명성, 탄력성을 추구하는 고성능 부품으로 변모하고 있습니다.

EUV 리소그래피와 3D 통합의 추진은 실리카 유리 수요를 증가시킬 것인가?

반도체 산업이 EUV 리소그래피와 3D IC 적층으로 전환함에 따라 광학 재료와 구조 재료에 대한 성능 요구가 높아지고 있습니다. 실리카 유리는 EUV 시스템에서 정밀 포토마스크, 광학 렌즈, 웨이퍼 스테이지 윈도우의 기판으로 중요한 역할을 하고 있습니다. 이러한 구성 요소는 장시간의 노광 사이클 동안 나노미터 해상도에서 광학 균일성과 열 안정성을 유지해야 하며, 3D 포장에서 실리카 유리는 전기 절연성, 열 안정성, 실리콘과의 CTE 호환성으로 인해 인터포저 및 재분배층 캐리어로 사용됩니다. 사용되고 있습니다. 로직 및 메모리 디바이스가 더 적층되고 소형화된 구성을 채택함에 따라 왜곡이나 유전체 간섭 없이 수직 집적화를 지원하는 재료에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 또한, 실리카 기반 포토블랭크 및 링 부품은 웨이퍼 검사, 측정 및 패터닝 툴에서도 인기를 얻고 있습니다. 이러한 변화로 인해 첨단 반도체 제조에서 실리카 유리의 기능적 역할과 수량적 요구사항이 크게 확대되고 있습니다.

반도체용 실리카 유리 시장의 세계 확대 원동력은?

세계 반도체용 실리카 유리 시장의 성장은 첨단 노드로의 전환, EUV 리소그래피 채택 확대, 세계 공장 투자 확대 등 여러 요인에 의해 주도되고 있습니다. 칩 제조업체들이 5nm 이하로 전환함에 따라 핵심 공정 툴에서 고순도 실리카 유리 및 합성 실리카에 대한 수요가 급격히 증가하고 있으며, AI, HPC, 첨단 메모리의 성장으로 웨이퍼의 양이 증가하고 공정 공정 공정이 복잡해짐에 따라 내구성이 뛰어나고 오염이 적은 재료가 요구되고 있습니다. 요구되고 있습니다. 주요 주조업체들의 EUV 채택은 초순수 실리카로 만든 정밀 광학 부품과 기판 재료 수요를 촉진하고 있습니다. 또한 미국, 대만, 한국, 중국을 중심으로 한 팹 건설의 급증도 석영 부품과 실리카 유리 소모품의 대량 조달을 촉진하고 있습니다. 또한, 3D NAND, 첨단 포장, 측정 도구에 대한 수요 증가는 재료 제조업체의 기술 혁신과 생산 규모 확대를 촉진하고 있습니다. 반도체 제조가 더욱 엄격해지고 세계화됨에 따라 실리카 유리는 공정 무결성, 정밀 광학, 무오염 제조에 필수적인 요소로 자리매김하고 있습니다.

부문

제품 유형(고온 프로세스, 저온 프로세스), 용도(반도체 제조 장비 제조업체, 웨이퍼 제조 제조업체, 기타 용도)

조사 대상 기업 예(총 43개사)

AI 통합

우리는 유효한 전문가 컨텐츠와 AI툴에 의해 시장 정보와 경쟁 정보를 변혁하고 있습니다.

Global Industry Analysts는 LLM나 업계 고유 SLM를 조회하는 일반적인 규범에 따르는 대신에, 비디오 기록, 블로그, 검색 엔진 조사, 방대한 양의 기업, 제품/서비스, 시장 데이터 등, 전 세계 전문가로부터 수집한 컨텐츠 리포지토리를 구축했습니다.

관세 영향 계수

Global Industry Analysts는 본사의 국가, 제조거점, 수출입(완제품 및 OEM)을 기반으로 기업의 경쟁력 변화를 예측했습니다. 이러한 복잡하고 다면적인 시장 역학은 수익원가(COGS) 증가, 수익성 감소, 공급망 재편 등 미시적 및 거시적 시장 역학 중에서도 특히 경쟁사들에게 영향을 미칠 것으로 예측됩니다.

목차

제1장 조사 방법

제2장 주요 요약

제3장 시장 분석

제4장 경쟁

LSH
영문 목차

영문목차

Global Silica Glass for Semiconductors Market to Reach US$1.2 Billion by 2030

The global market for Silica Glass for Semiconductors estimated at US$700.4 Million in the year 2024, is expected to reach US$1.2 Billion by 2030, growing at a CAGR of 9.2% over the analysis period 2024-2030. High Temperature Process, one of the segments analyzed in the report, is expected to record a 10.4% CAGR and reach US$892.6 Million by the end of the analysis period. Growth in the Low Temperature Process segment is estimated at 6.1% CAGR over the analysis period.

The U.S. Market is Estimated at US$184.1 Million While China is Forecast to Grow at 8.9% CAGR

The Silica Glass for Semiconductors market in the U.S. is estimated at US$184.1 Million in the year 2024. China, the world's second largest economy, is forecast to reach a projected market size of US$188.9 Million by the year 2030 trailing a CAGR of 8.9% over the analysis period 2024-2030. Among the other noteworthy geographic markets are Japan and Canada, each forecast to grow at a CAGR of 8.6% and 7.7% respectively over the analysis period. Within Europe, Germany is forecast to grow at approximately 7.3% CAGR.

Global "Silica Glass for Semiconductors" Market - Key Trends & Drivers Summarized

Why Is Silica Glass an Irreplaceable Material in Semiconductor Manufacturing?

Silica glass, particularly in its fused and synthetic forms, plays a foundational role in semiconductor fabrication due to its exceptional purity, thermal resistance, and chemical inertness. Unlike standard glass, silica glass can withstand extreme temperatures and aggressive chemistries used in processes such as oxidation, diffusion, and plasma etching. Its low coefficient of thermal expansion ensures dimensional stability across wide thermal cycles, which is critical when dealing with nanometer-scale features. Semiconductor applications for silica glass include quartzware, photomask substrates, deposition chamber windows, and wafer carriers. In advanced lithography, especially EUV (Extreme Ultraviolet), ultra-high-purity synthetic silica glass is used for optics and reticle substrates due to its superior transmission and low birefringence. As the industry moves toward tighter geometries, higher wafer throughput, and contamination-free environments, silica glass has become an essential enabling material that underpins precision and process integrity at every fabrication stage.

How Are Ultra-Purity and Fabrication Advancements Elevating Silica Glass Standards?

The drive toward smaller node sizes and defect-free manufacturing is accelerating demand for ultra-pure, low-defect silica glass with sub-ppm impurity levels. Manufacturers are advancing their melting and forming processes to control hydroxyl content, eliminate bubble inclusions, and minimize micro-defects that could affect optical clarity or structural performance. Technologies such as flame hydrolysis deposition and electric fusion are being refined to produce synthetic silica glass with extreme homogeneity and UV transmission capabilities. CNC machining and precision polishing techniques enable custom quartzware components with tight tolerances and surface finishes suitable for vacuum and high-energy plasma environments. In semiconductor etch and deposition tools, where even microscopic contamination can impact yield, high-grade silica components are preferred for their minimal particle generation and chemical resistance. These advancements are transforming silica glass from a passive substrate to a high-performance component engineered for stability, transparency, and resilience under punishing conditions.

Is the Push for EUV Lithography and 3D Integration Raising Silica Glass Demand?

With the semiconductor industry’s transition to EUV lithography and 3D IC stacking, the performance requirements for optical and structural materials have intensified. Silica glass plays a critical role in EUV systems-serving as the base material for precision photomasks, optical lenses, and wafer stage windows. These components must maintain optical uniformity and thermal stability at nanometer resolution over extended exposure cycles. In 3D packaging, silica glass is used as an interposer and redistribution layer carrier due to its electrical insulation, thermal stability, and CTE compatibility with silicon. As logic and memory devices adopt more stacked, miniaturized configurations, the demand for materials that support vertical integration without distortion or dielectric interference is rising. Additionally, silica-based photo blanks and ring components are gaining traction in wafer inspection, metrology, and patterning tools. These shifts are significantly expanding the functional roles and volume requirements of silica glass in advanced semiconductor manufacturing.

What’s Fueling the Global Expansion of the Silica Glass for Semiconductors Market?

The growth in the global silica glass for semiconductors market is driven by several factors including the shift to advanced nodes, increased adoption of EUV lithography, and expanding fab investments worldwide. As chipmakers move to 5nm and below, the need for high-purity quartzware and synthetic fused silica in critical process tools is rising sharply. The growth of AI, HPC, and advanced memory is driving higher wafer volumes and more complex process steps, which in turn require durable, low-contamination materials. EUV adoption among major foundries is fueling demand for precision optics and substrate materials made from ultra-pure silica. The surge in fab construction-particularly in the U.S., Taiwan, South Korea, and China-is also driving bulk procurement of quartz components and silica glass consumables. Furthermore, rising demand for 3D NAND, advanced packaging, and metrology tools is pushing material providers to innovate and scale production. As semiconductor production becomes more exacting and globalized, silica glass remains indispensable for process integrity, precision optics, and contamination-free manufacturing.

SCOPE OF STUDY:

The report analyzes the Silica Glass for Semiconductors market in terms of units by the following Segments, and Geographic Regions/Countries:

Segments:

Type (High Temperature Process, Low Temperature Process); Application (Semiconductor Equipment Manufacturer, Wafer Production Manufacturer, Other Applications)

Geographic Regions/Countries:

World; United States; Canada; Japan; China; Europe (France; Germany; Italy; United Kingdom; and Rest of Europe); Asia-Pacific; Rest of World.

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TABLE OF CONTENTS

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II. EXECUTIVE SUMMARY

III. MARKET ANALYSIS

IV. COMPETITION

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