세계의 마스크 블랭크 시장 규모는 2024년에 31억 6,100만 달러로 평가되었고, 2025-2031년의 예측 기간에 CAGR 6.1%로 성장을 지속하여, 2031년까지 47억 7,800만 달러에 이를 것으로 예측됩니다.
본 보고서는 마스크 공백의 국경 간 산업 발자국, 자본 배분 패턴, 지역 경제의 상호 의존성, 공급망 재구축, 최근 관세 조정 및 국제적인 전략적 대응 조치에 대한 종합적인 평가를 제공합니다.
마스크 블랭크는 주로 석영 유리 또는 소다 석회 유리 기판 위에 크롬 또는 몰리브덴 실리사이드계 박막을 형성한 제품입니다. 전자빔 또는 레이저 빔에 감광하고 에칭 공정에 내성이 있는 감광성 레지스트 재료로 코팅되어 회로 패턴을 형성합니다.
마스크 블랭크의 세계적인 주요 기업으로는 Shin-Etsu MicroSi, Inc., HOYA, AGC, S&S Tech, ULCOAT 등이 있습니다. 상위 5개사의 점유율은 90% 이상을 차지하고 있습니다. 제품별로는 저반사 크롬막 마스크 블랭크가 가장 큰 부문으로 약 66%의 점유율을 차지하고 있습니다. 용도별로는 반도체 용도가 가장 큰 응용 분야로 약 55%의 점유율을 차지하고 있습니다.
주요 시장 성장 촉진요인은 다음과 같습니다.
1. 반도체 산업 수요 증가
다운스트림 용도 확대
5G 및 AI 주도: 5G 기지국, AI 칩, 자동차 전장 등의 분야에서 고성능 반도체 수요가 급증하면서 28nm 이상 공정 기술을 적용한 칩의 생산 확대를 견인하고 있습니다.
첨단 공정으로의 전환: 28nm 이하 공정(7nm, 5nm 등)에서는 나노미터 수준의 정밀도가 요구되는 마스크 기판이 필요하며, 높은 투과율과 낮은 열팽창 계수를 가진 합성 석영 기판이 최적의 선택이 되고 있습니다.
국내 대체 가속화: 국내 기업(비리화, 로위광전 등)이 기술 장벽을 뚫고 국내 생산률은 2018년 10% 미만에서 2025년 30%, 2027년 50%를 넘어설 것으로 예측됩니다.
독립적인 써드파티 마스크 제조업체 시장 점유율이 확대되고, 웨이퍼 팹에서 성숙 공정(28nm 이상)의 외주 생산 비율이 47.3%로 증가했습니다. 2. 디스플레이 패널 산업의 고도화
2. 대형화 추세
고세대 라인 건설: 8.6세대(10.5세대 등) 이상 패널 생산 라인이 증가함에 따라 대형 포토마스크 블랭크에 대한 수요가 증가하고 있으며, 기판 사이즈는 5세대 1m×1m에서 11세대 3m×3m로 확대되고 있습니다.
기술 혁신 : AMOLED/LTPO/LTPS 등 새로운 디스플레이 기술은 마스크 기판에 서브미크론 수준의 정밀도를 요구하며 하이엔드 기판 수요를 견인하고 있습니다.
3. 기술 진보와 재료 혁신
합성 석영 기판의 장점
우수한 성능: 고순도(불순물 함량 <10ppb), 낮은 열팽창 계수(<0.1ppm/°&C), 높은 투과율(200nm 파장에서 >90%)을 실현하여 DUV/EUV 리소그래피에 적합합니다.
공정 혁신 : 국내 제조업체는 결함 밀도를 평방인치당 15개 결함에서 5개 결함으로 감소시켜 5세대 라인의 진입 기준을 충족시켰습니다.
코팅 공정 개선
몰리브덴-실리콘 이중차광층(OMOG) : 신에츠화학공업㈜이 기존 크롬층을 대체할 수 있는 기술을 개발하여 안정성과 에칭 성능을 향상시켜 하이엔드 기판 수요를 견인하고 있습니다.
EUV 기술 적용: 반사형 마스크 기판(키노시타 켄 등 특허 취득)은 극자외선 리소그래피에 적용되어 7nm 이하 공정에서 중요한 재료가 되었습니다.
4. 정책 지원 및 산업 체인 연계
국가 정책 추진
현지화 목표: '중국제조 2025' 등의 정책에서는 반도체 소재의 국산화율을 2025년까지 50%까지 끌어올리는 것을 명확한 목표로 삼고 있습니다.
재정 지원: 가흥련반도체는 본 프로젝트에 30억 위안을 투자하여 포토마스크 재료의 완벽한 공급망을 구축하였습니다.
산업 체인 통합
수직 통합: 루위광전은 G2.5에서 G11까지 전세대 마스크 생산 능력을 구축했고, 페이리화는 석영 모래에서 기판까지 수직 통합을 실현했습니다.
장비 국산화 : 신미전자는 90nm 노드 직접 도면 노광 장비를 납품하여 수입 장비 의존도를 낮추었습니다.
5. 시장 경쟁 구도의 변화
국제적인 독과점 체제 타파
일본과 한국 기업의 지배: 신에츠화학공업과 동소석영이 하이엔드 시장의 50%를 점유하고 있지만, 국내 기업들은 기술 인증(예: 비화의 도쿄전자 인증)을 통해 점차 시장에 진입하고 있습니다.
6. 비용 및 공급망 요인
원자재 비용 최적화
합성석영의 스케일업: 비화과학기술의 G8.5세대 기판 양산으로 단가가 하락하여 하이엔드 기판의 가격 인하를 촉진.
장비 국산화: 국산 포토리소그래피 장비(예: 코어마이크로의 90nm 장비)는 가격 면에서 큰 우위를 점하고 있으며, 마스크 블랭크의 생산 효율을 향상시키고 있습니다.
마스크 블랭크 시장의 핵심 촉진요인으로는 반도체 및 디스플레이 패널 산업 수요 증가, 합성 석영과 같은 고급 소재의 기술 혁신, 현지화 정책과 산업 체인 통합, 5G/AI와 같은 신흥 용도에 대한 기술 적응 등을 들 수 있습니다. 향후 EUV 기술의 보급과 국내 기업의 기술력 향상에 따라 하이엔드 생산, 현지화, 규모 확대가 병행되는 추세가 예상됩니다.
이 보고서는 총 판매량, 매출액, 가격, 주요 기업의 시장 점유율 및 순위에 초점을 맞춘 지역별, 국가별, 유형별, 용도별 분석을 통해 마스크 블랭크 세계 시장을 종합적으로 제시하는 것을 목표로 합니다.
이 보고서는 2024년을 기준 연도로 2020년에서 2031년까지의 과거 데이터와 예측 데이터를 포함하여 판매량(천 평방미터)과 매출액(백만 달러)으로 마스크 블랭크 시장 규모, 추정 및 예측을 제시합니다. 정량적 분석과 정성적 분석을 통해 독자들이 비즈니스/성장 전략 수립, 시장 경쟁 평가, 현재 시장에서의 포지셔닝 분석, 마스크 블랭크에 대한 정보에 입각한 비즈니스 의사결정을 내릴 수 있도록 도와드립니다.
시장 세분화
기업별
유형별 부문
용도별 부문
지역별
The global market for Mask Blanks was estimated to be worth US$ 3161 million in 2024 and is forecast to a readjusted size of US$ 4778 million by 2031 with a CAGR of 6.1% during the forecast period 2025-2031.
This report provides a comprehensive assessment of recent tariff adjustments and international strategic countermeasures on Mask Blanks cross-border industrial footprints, capital allocation patterns, regional economic interdependencies, and supply chain reconfigurations.
Mask Blanks are the products which are formed from a chrome or molybdenum silicide based thin film on mainly quartz or soda-lime glass substrate. And they are coated by photosensitive resist materials which sensitive for electron or laser beam and resist for etching process to make circuit patterns.
Global key players of Mask Blanks include Shin-Etsu MicroSi, Inc., HOYA, AGC, S&S Tech and ULCOAT. The top five players hold a share over 90%. In terms of product, low reflectance chrome-film mask blanks are the largest segment, with a share about 66%. And in terms of application, the largest application is Semiconductor, with a share about 55%.
The main market drivers include the following:
1. Growing demand in the semiconductor industry
Expanding downstream applications
5G and AI-driven: Surges in demand for high-performance semiconductors in areas such as 5G base stations, AI chips, and automotive electronics are driving production growth for chips with process technology of 28nm and above.
Advanced process upgrades: Processes below 28nm (such as 7nm and 5nm) require mask substrates with precision down to the nanometer level, with synthetic quartz substrates becoming the preferred choice due to their high transmittance and low thermal expansion coefficient.
Accelerated domestic substitution: Domestic companies (such as Philihua and Luwei Optoelectronics) have broken through technological barriers, increasing the domestic production rate from less than 10% in 2018 to 30% in 2025, and projected to exceed 50% in 2027.
Independent third-party mask manufacturers are expanding their market share, and wafer fabs are increasing the proportion of outsourced manufacturing for mature processes (above 28nm) to 47.3%. 2. Display Panel Industry Upgrade
2.Large-Screen Trend
High-Generation Line Construction: The increase in panel production lines for Generation 8.6 and above (such as Generation 10.5) is driving demand for large photomask blanks, with substrate sizes expanding from 1mX1m in Generation 5 to 3mX3m in Generation 11.
Technological Iteration: New display technologies such as AMOLED/LTPO/LTPS require submicron precision for mask substrates, driving demand for high-end substrates.
3. Technological Advancement and Material Innovation
Advantages of Synthetic Quartz Substrates
Excellent Performance: High purity (impurity content <10ppb), low thermal expansion coefficient (<0.1ppm/°C), and transmittance (>90% at 200nm wavelength), making them suitable for DUV/EUV lithography.
Process Breakthrough: Domestic companies have reduced defect density from 15 defects per square inch to 5 defects per square inch, meeting the entry standard for Generation 5 lines.
Coating Process Improvements
Molybdenum-silicon binary light shielding layer (OMOG): Shin-Etsu Chemical has developed an alternative to the traditional chromium layer, improving stability and etching performance, driving demand for high-end substrates.
EUV Technology Adaptation: Reflective mask substrates (such as those patented by Ken Kinoshita) are adapted for extreme ultraviolet lithography, becoming a key material for processes below 7nm.
4. Policy Support and Industry Chain Collaboration
National Policy Promotion
Localization Target: "Made in China 2025" and other policies clearly define increasing the localization rate of semiconductor materials, with a target of 50% by 2025.
Financial Support: Jiaxing Lien Semiconductor invested 3 billion yuan in the project, establishing a complete supply chain for photomask materials.
Industry Chain Integration
Vertical Integration: Luwei Optoelectronics has established full-generation mask production capacity from G2.5 to G11, and Philihua has achieved vertical integration from quartz sand to substrates.
Equipment Localization: Xinji Micro-Equipment has delivered 90nm node direct-write lithography equipment, reducing dependence on imported equipment.
5. Changing Market Competition Landscape
Breaking International Monopoly
Dominated by Japanese and Korean Companies: Shin-Etsu Chemical and Tosoh Quartz Crystal hold a 50% share of the high-end market, but domestic companies are gradually penetrating through technical certifications (e.g., Philihua's Tokyo Electron certification).
6. Cost and Supply Chain Factors
Raw Material Cost Optimization
Scale-up of Synthetic Quartz: Philihua's G8.5-generation substrate mass production has reduced unit costs, driving down prices for high-end substrates.
Equipment Localization: Domestic photolithography equipment (e.g., Core Micro's 90nm equipment) offers significant price advantages, improving mask blank production efficiency.
The core drivers of the Mask Blanks market include: escalating demand from the semiconductor and display panel industries, technological breakthroughs in high-end materials like synthetic quartz, localization policies and industry chain integration, and technological adaptation to emerging applications such as 5G/AI. In the future, with the widespread adoption of EUV technology and the improvement of domestic companies' technological capabilities, the market will exhibit a parallel trend of high-end production, localization, and scale.
This report aims to provide a comprehensive presentation of the global market for Mask Blanks, focusing on the total sales volume, sales revenue, price, key companies market share and ranking, together with an analysis of Mask Blanks by region & country, by Type, and by Application.
The Mask Blanks market size, estimations, and forecasts are provided in terms of sales volume (K Sqm) and sales revenue ($ millions), considering 2024 as the base year, with history and forecast data for the period from 2020 to 2031. With both quantitative and qualitative analysis, to help readers develop business/growth strategies, assess the market competitive situation, analyze their position in the current marketplace, and make informed business decisions regarding Mask Blanks.
Market Segmentation
By Company
Segment by Type
Segment by Application
By Region
Chapter Outline
Chapter 1: Introduces the report scope of the report, global total market size (value, volume and price). This chapter also provides the market dynamics, latest developments of the market, the driving factors and restrictive factors of the market, the challenges and risks faced by manufacturers in the industry, and the analysis of relevant policies in the industry.
Chapter 2: Detailed analysis of Mask Blanks manufacturers competitive landscape, price, sales and revenue market share, latest development plan, merger, and acquisition information, etc.
Chapter 3: Provides the analysis of various market segments by Type, covering the market size and development potential of each market segment, to help readers find the blue ocean market in different market segments.
Chapter 4: Provides the analysis of various market segments by Application, covering the market size and development potential of each market segment, to help readers find the blue ocean market in different downstream markets.
Chapter 5: Sales, revenue of Mask Blanks in regional level. It provides a quantitative analysis of the market size and development potential of each region and introduces the market development, future development prospects, market space, and market size of each country in the world.
Chapter 6: Sales, revenue of Mask Blanks in country level. It provides sigmate data by Type, and by Application for each country/region.
Chapter 7: Provides profiles of key players, introducing the basic situation of the main companies in the market in detail, including product sales, revenue, price, gross margin, product introduction, recent development, etc.
Chapter 8: Analysis of industrial chain, including the upstream and downstream of the industry.
Chapter 9: Conclusion.