세계의 반도체 CMP 필터 : 시장 점유율과 순위, 전체 판매량 및 수요 예측(2025-2031년)
Semiconductor CMP Filters - Global Market Share and Ranking, Overall Sales and Demand Forecast 2025-2031
상품코드:1867487
리서치사:QYResearch
발행일:2025년 10월
페이지 정보:영문
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세계의 반도체 CMP 필터 시장 규모는 2024년에 1억 3,000만 달러로 평가되었고, 2025-2031년의 예측 기간에 CAGR 6.5%로 성장을 지속하여, 2031년까지 2억 600만 달러에 이를 것으로 예측됩니다.
본 보고서는 최근 반도체 CMP 필터에 대한 관세 조정과 국제적인 전략적 대응 조치에 대해 국경 간 산업 발자국, 자본 배분 패턴, 지역 경제의 상호의존성, 공급망 재구축을 종합적으로 평가합니다.
CMP는 반도체 웨이퍼 제조 공정에서 연마 공정을 말합니다. 연마 공구와 연마 연마 슬러리를 사용하여 웨이퍼 표면을 매끄럽게 합니다. 슬러리에는 30-200μm의 입자가 포함되어 있으며, 표준에서는 입자 크기를 0.5μm 미만으로 제어하도록 요구하고 있습니다. 0.5μ&m 이상의 입자를 제거하지 못하면 웨이퍼 표면에 흠집이 생길 수 있기 때문에 슬러리 여과는 공정에서 매우 중요한 요소입니다.
첨단 칩 제조에서 CMP(화학적 기계적 연마) 공정은 웨이퍼 표면의 품질과 평탄도에 대한 요구가 매우 높습니다. CMP 슬러리의 입자 제어 능력은 수율을 결정하는 중요한 요소입니다. CMP 슬러리는 제조 및 순환 중에 겔화 및 응집이 발생하기 쉽고, 큰 입자를 생성합니다. 이를 효과적으로 걸러내지 못하면 미세 스크래치나 결함의 원인이 될 뿐만 아니라 웨이퍼 전체를 폐기해야 할 수도 있어 생산 능력과 비용에 심각한 영향을 미칠 수 있습니다.
기존의 유체 여과와 달리, CMP 필터는 끝단에서 큰 입자를 정확하게 포착할 뿐만 아니라 효과적인 연마 입자의 통과율을 보장하고 높은 연마 속도와 안정적인 평탄화 결과를 유지해야 합니다. 이로 인해 필터의 정밀도, 구조, 재료의 내화학성, 안정성에 큰 문제가 발생합니다.
따라서 CMP 필터는 슬러리 제조, 웨이퍼 가공, 공정 루프, POU(End-of-line) 시스템에 이르는 전 공정에 배치되어 LPC(Large Particle Count)를 정밀하게 제어함으로써 칩 제조의 원류부터 높은 수율과 일관성을 보장합니다.
현재, 엔테그리스, 폴, 3M, 코베터, 항주디파인, 항주달리, 피처텍 등의 기업들은 3D NAND, GAA 등 첨단 공정에서 더 높은 여과 성능에 대한 수요에 대응하기 위해 기술 혁신을 통해 CMP 여과 솔루션 개발을 지속적으로 추진하고 있습니다. 반도체 수율 향상에 중요한 지원군이 되고 있습니다.
이 보고서는 반도체 CMP 필터 세계 시장에 대해 총 판매량, 매출액, 가격, 주요 기업의 시장 점유율 및 순위에 초점을 맞추고 지역별, 국가별, 기술별, 용도별 분석을 종합적으로 제시하는 것을 목적으로 합니다.
반도체 CMP 필터 시장 규모, 추정치, 예측치를 판매량(1,000대) 및 매출액(백만 달러)으로 제시하고, 2024년을 기준 연도로 하여 2020년부터 2031년까지의 과거 데이터와 예측 데이터를 조사하여 분석했습니다. 정량적, 정성적 분석을 통해 독자들이 반도체 CMP 필터의 비즈니스/성장 전략 수립, 시장 경쟁 평가, 현재 시장 내 자사 포지셔닝 분석, 그리고 정보에 입각한 비즈니스 의사결정을 내릴 수 있도록 도와드립니다.
시장 세분화
기업별
Entegris
Pall
Cobetter
3M
Hangzhou Deefine
Hangzhou Darlly Filtration Equipment Co.,Ltd
Ever Pure Applied Materials Co., Ltd
Membrane Solutions
Feature-Tec
기술별 부문
캡슐 필터
카트리지 필터
용도별 부문
CMP 슬러리 생산용 여과
웨이퍼 제조
루프/기계용 POU 여과
지역별
북미
미국
캐나다
아시아태평양
중국
일본
한국
동남아시아
인도
호주
기타 아시아태평양
유럽
독일
프랑스
영국
이탈리아
네덜란드
북유럽 국가
기타 유럽
라틴아메리카
멕시코
브라질
기타 라틴아메리카
중동 및 아프리카
튀르키예
사우디아라비아
아랍에미리트(UAE)
기타 중동 및 아프리카
LSH
영문 목차
영문목차
The global market for Semiconductor CMP Filters was estimated to be worth US$ 130 million in 2024 and is forecast to a readjusted size of US$ 206 million by 2031 with a CAGR of 6.5% during the forecast period 2025-2031.
This report provides a comprehensive assessment of recent tariff adjustments and international strategic countermeasures on Semiconductor CMP Filters cross-border industrial footprints, capital allocation patterns, regional economic interdependencies, and supply chain reconfigurations.
CMP refers to the lapping process used in semiconductor wafer production. It uses lapping tools and a lapping and polishing slurry to smooth the wafer. The slurry contains particles ranging from 30 to 200 μm, and standards require that the particle size be controlled to less than 0.5 μm. Failure to filter out particles larger than 0.5 μm can lead to scratches on the wafer surface, making slurry filtration a critical aspect of the process.
In advanced chip manufacturing, the CMP (chemical mechanical polishing) process places extremely high demands on wafer surface quality and flatness. The particle control capabilities of CMP slurry are a key factor in determining yield. Since slurry easily forms gels and agglomerates during preparation and circulation, resulting in large particles, if not effectively filtered, they can easily cause micro-scratches, defects, or even entire wafers to be scrapped, severely impacting production capacity and costs.
Unlike traditional fluid filtration, CMP filters must not only accurately intercept large particles at the tail end but also ensure the passage rate of effective abrasive particles to maintain high polishing rates and stable planarization results. This places significant challenges on the filter's precision, structure, material chemical resistance, and stability.
Thus, CMP filters are deployed throughout the entire process, from slurry production, wafer fabrication, process loops, and end-of-line (POU) systems, to precisely control LPC (large particle count), ensuring high yield and consistency in chip manufacturing from the source.
Currently, companies such as Entegris, Pall, 3M, Cobetter, Hangzhou Deefine, Hangzhou Darlly, and Feature-Tec are continuously promoting the development of CMP filtration solutions through technological innovation to meet the higher demand for filtration performance in advanced processes such as 3D NAND and GAA, becoming a key support force for improving semiconductor yield.
This report aims to provide a comprehensive presentation of the global market for Semiconductor CMP Filters, focusing on the total sales volume, sales revenue, price, key companies market share and ranking, together with an analysis of Semiconductor CMP Filters by region & country, by Technology, and by Application.
The Semiconductor CMP Filters market size, estimations, and forecasts are provided in terms of sales volume (K Units) and sales revenue ($ millions), considering 2024 as the base year, with history and forecast data for the period from 2020 to 2031. With both quantitative and qualitative analysis, to help readers develop business/growth strategies, assess the market competitive situation, analyze their position in the current marketplace, and make informed business decisions regarding Semiconductor CMP Filters.
Market Segmentation
By Company
Entegris
Pall
Cobetter
3M
Hangzhou Deefine
Hangzhou Darlly Filtration Equipment Co.,Ltd
Ever Pure Applied Materials Co., Ltd
Membrane Solutions
Feature-Tec
Segment by Technology
Capsule Filter
Cartridge Filter
Segment by Application
CMP Slurries Production Filtration
Wafer Fab
Loop/Machine POU Filtration
By Region
North America
United States
Canada
Asia-Pacific
China
Japan
South Korea
Southeast Asia
India
Australia
Rest of Asia-Pacific
Europe
Germany
France
U.K.
Italy
Netherlands
Nordic Countries
Rest of Europe
Latin America
Mexico
Brazil
Rest of Latin America
Middle East & Africa
Turkey
Saudi Arabia
UAE
Rest of MEA
Chapter Outline
Chapter 1: Introduces the report scope of the report, global total market size (value, volume and price). This chapter also provides the market dynamics, latest developments of the market, the driving factors and restrictive factors of the market, the challenges and risks faced by manufacturers in the industry, and the analysis of relevant policies in the industry.
Chapter 2: Detailed analysis of Semiconductor CMP Filters manufacturers competitive landscape, price, sales and revenue market share, latest development plan, merger, and acquisition information, etc.
Chapter 3: Provides the analysis of various market segments by Technology, covering the market size and development potential of each market segment, to help readers find the blue ocean market in different market segments.
Chapter 4: Provides the analysis of various market segments by Application, covering the market size and development potential of each market segment, to help readers find the blue ocean market in different downstream markets.
Chapter 5: Sales, revenue of Semiconductor CMP Filters in regional level. It provides a quantitative analysis of the market size and development potential of each region and introduces the market development, future development prospects, market space, and market size of each country in the world.
Chapter 6: Sales, revenue of Semiconductor CMP Filters in country level. It provides sigmate data by Technology, and by Application for each country/region.
Chapter 7: Provides profiles of key players, introducing the basic situation of the main companies in the market in detail, including product sales, revenue, price, gross margin, product introduction, recent development, etc.
Chapter 8: Analysis of industrial chain, including the upstream and downstream of the industry.
