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세계의 금속 스퍼터링 타겟 재료 시장
Metal Sputtering Target Materials
상품코드 : 1757769
리서치사 : Market Glass, Inc. (Formerly Global Industry Analysts, Inc.)
발행일 : 2025년 06월
페이지 정보 : 영문 275 Pages
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한글목차

금속 스퍼터링 타겟 재료 세계 시장은 2030년까지 41억 달러에 이를 전망

2024년에 33억 달러로 추정되는 금속 스퍼터링 타겟 재료 세계 시장은 2024-2030년 CAGR 3.8%로 성장하여 2030년에는 41억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 본 보고서에서 분석한 부문 중 하나인 순금속은 CAGR 3.2%를 나타내고, 분석 기간 종료시에는 27억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 합금 부문의 성장률은 분석 기간에 CAGR 5.1%로 추정됩니다.

미국 시장은 8억 8,580만 달러로 추정, 중국은 CAGR 6.9%로 성장 예측

미국의 금속 스퍼터링 타겟 재료 시장은 2024년에 8억 8,580만 달러로 추정됩니다. 세계 2위 경제대국인 중국은 분석 기간인 2024-2030년 CAGR 6.9%로 2030년까지 8억 1,510만 달러 규모에 이를 것으로 예측됩니다. 기타 주목해야 할 지역별 시장으로서는 일본과 캐나다가 있으며, 분석 기간 중 CAGR은 각각 1.6%와 2.9%를 보일 것으로 예측됩니다. 유럽에서는 독일이 CAGR 2.2%를 보일 전망입니다.

세계의 금속 스퍼터링 타겟 재료 시장 - 주요 동향과 촉진요인 정리

박막 증착에 금속 스퍼터링 타겟 재료가 필수적인 이유는 무엇인가?

금속 스퍼터링 타겟 재료는 반도체, 태양전지, 데이터 저장 장치, 디스플레이, 광학 코팅과 같은 고정밀 응용 분야에서 박막을 만드는 데 사용되는 물리적 증착(PVD) 공정의 중요한 구성 요소입니다. 이러한 타겟은 고에너지 이온을 조사하여 원자를 방출하고 기판 위에 박막으로 증착시키는 소스 재료 역할을 합니다. 알루미늄, 구리, 티타늄, 탄탈륨, 몰리브덴, 금 등의 금속이 일반적으로 사용되며, 전도성, 반사율, 내식성 등 원하는 막 특성에 따라 구분하여 사용합니다.

스퍼터링은 필름의 균일성, 접착력 및 조성을 제어할 수 있기 때문에 복잡한 다층 필름 및 나노 구조 필름을 형성하는 데 적합한 방법입니다. 금속 타겟은 성막의 일관성을 보장하고 섬세한 전자 및 광학 부품에 대한 오염을 피하기 위해 고순도(종종 99.99% 이상)로 제조됩니다. 첨단 제조 공정은 더 높은 재료 성능과 증착 제어를 요구하기 때문에 금속 스퍼터링 타겟은 하이테크 산업에서 필수 불가결한 요소입니다.

어떤 기술 발전이 스퍼터링 타겟의 개발을 형성하고 있는가?

야금학, 분말 가공 및 열간 등압 프레스(HIP)의 개선으로 스퍼터링 타겟의 밀도, 입자 크기 균일성 및 기계적 안정성이 향상되었습니다. 이러한 특성은 특히 고출력 및 장주기 증착 시스템에서 스퍼터링 수율을 유지하고 타겟의 수명을 연장하는 데 매우 중요합니다. 합금 타겟과 복합 타겟은 또한 전도성과 내식성을 결합하거나 광 반사율을 변경하는 등 다기능 특성을 제공하도록 설계되어 있습니다.

확산 접합 및 전자빔 용접과 같은 첨단 접합 기술은 타겟과 백킹 플레이트 사이의 접착력을 향상시키고, 열 성능을 개선하며, 증착 중 아크 방전을 감소시킵니다. 회전식 및 곡면 설계를 포함한 타겟 성형 기술은 대면적 및 고처리량 용도에서 보다 균일한 침식 및 장시간 작동을 가능하게 합니다. 증착이 원자층 및 초박막 영역으로 이동함에 따라 정밀 가공 및 순도 제어가 엄격한 사양을 충족하는 데 필수적으로 요구되고 있습니다.

금속 스퍼터링 타겟의 세계 수요를 주도하는 산업과 용도는?

반도체 산업은 여전히 금속 스퍼터링 타겟의 주요 수요처이며, 특히 초박막 및 무결점 금속막이 중요한 집적회로, MEMS 및 전력 소자 제조에 있어서는 더욱 그러합니다. 첨단 노드 및 3D 칩 아키텍처의 부상으로 구리, 텅스텐, 탄탈륨과 같은 재료는 상호 연결 및 배리어 층으로 높은 수요가 있습니다. 데이터 스토리지 분야에서는 스퍼터링으로 만든 자성 박막은 하드 디스크 플래터 및 신흥 스핀트로닉스 장치에 필수적입니다.

플랫 패널 디스플레이 및 터치스크린, 특히 OLED 및 TFT-LCD 제조에서 전극 및 투명 전도성 필름에 스퍼터링 금속층이 사용됩니다. 태양전지 패널 제조, 특히 CIGS 및 CdTe와 같은 박막 기술도 접촉층 및 흡수층용 금속 타겟에 의존하고 있습니다. 항공우주, 방위 및 광학 산업은 반사층, 열 장벽 및 방청 용도로 스퍼터링 코팅을 사용합니다. 산업이 스마트한 표면, 소형화된 장치, 에너지 효율적인 코팅으로 전환함에 따라 맞춤형 스퍼터링 타겟에 대한 수요가 빠르게 증가하고 있습니다.

금속 스퍼터링 타겟 재료 시장의 성장은 몇 가지 요인에 의해 주도됩니다.

금속 스퍼터링 타겟 재료 시장의 성장은 반도체 및 디스플레이 제조의 확대, 박막 태양전지 기술의 채택 확대, 광학, 의료 및 항공우주 산업에서 첨단 코팅에 대한 수요 증가 등 여러 요인에 의해 주도되고 있습니다. 스퍼터링 시스템의 기술 발전, 초순도 및 맞춤형 합금 타겟에 대한 수요, 전자 장치의 소형화 등으로 인해 재료 성능 요구사항이 증가하고 있습니다. 현재 진행 중인 집적 회로의 미세화, 녹색 에너지에 대한 투자 증가, 자동차용 일렉트로닉스에서 플렉서블 디스플레이에 이르기까지 응용 분야의 다양화는 고성능 금속 스퍼터링 타겟에 대한 견고하고 지속적인 수요를 전 세계적으로 보장하고 있습니다.

부문

유형(순금속, 합금), 용도(반도체, 태양에너지, 플랫 패널 디스플레이)

조사 대상 기업 예(총 41개사)

AI 통합

우리는 유효한 전문가 컨텐츠와 AI툴에 의해서, 시장과 경쟁 정보를 변혁하고 있습니다.

Global Industry Analysts는 LLM이나 업계 고유 SLM를 조회하는 일반적인 규범에 따르는 대신에, 비디오 기록, 블로그, 검색 엔진 조사, 방대한 양 기업, 제품/서비스, 시장 데이터 등, 전 세계 전문가로부터 수집한 컨텐츠 리포지토리를 구축했습니다.

관세 영향 계수

Global Industry Analysts는 본사의 국가, 제조거점, 수출입(완제품 및 OEM)을 기반으로 기업의 경쟁력 변화를 예측했습니다. 이러한 복잡하고 다면적인 시장 역학은 수익원가(COGS) 증가, 수익성 감소, 공급망 재편 등 미시적 및 거시적 시장 역학 중에서도 특히 경쟁사들에게 영향을 미칠 것으로 예측됩니다.

목차

제1장 조사 방법

제2장 주요 요약

제3장 시장 분석

제4장 경쟁

LSH
영문 목차

영문목차

Global Metal Sputtering Target Materials Market to Reach US$4.1 Billion by 2030

The global market for Metal Sputtering Target Materials estimated at US$3.3 Billion in the year 2024, is expected to reach US$4.1 Billion by 2030, growing at a CAGR of 3.8% over the analysis period 2024-2030. Pure Metal, one of the segments analyzed in the report, is expected to record a 3.2% CAGR and reach US$2.7 Billion by the end of the analysis period. Growth in the Alloy segment is estimated at 5.1% CAGR over the analysis period.

The U.S. Market is Estimated at US$885.8 Million While China is Forecast to Grow at 6.9% CAGR

The Metal Sputtering Target Materials market in the U.S. is estimated at US$885.8 Million in the year 2024. China, the world's second largest economy, is forecast to reach a projected market size of US$815.1 Million by the year 2030 trailing a CAGR of 6.9% over the analysis period 2024-2030. Among the other noteworthy geographic markets are Japan and Canada, each forecast to grow at a CAGR of 1.6% and 2.9% respectively over the analysis period. Within Europe, Germany is forecast to grow at approximately 2.2% CAGR.

Global Metal Sputtering Target Materials Market - Key Trends & Drivers Summarized

Why Are Metal Sputtering Target Materials Essential in Thin Film Deposition?

Metal sputtering target materials are critical components in physical vapor deposition (PVD) processes used to create thin films in high-precision applications such as semiconductors, solar cells, data storage, displays, and optical coatings. These targets serve as the source materials that are bombarded with high-energy ions, causing atoms to eject and deposit as a thin film onto a substrate. Metals such as aluminum, copper, titanium, tantalum, molybdenum, and gold are commonly used, depending on the desired film characteristics like conductivity, reflectivity, or corrosion resistance.

The ability to control film uniformity, adhesion, and composition makes sputtering a preferred method for creating complex multilayered or nanostructured coatings. Metal targets are manufactured with high purity (often >99.99%) to ensure consistency in deposition and avoid contamination in sensitive electronic or optical components. As advanced manufacturing processes demand greater material performance and deposition control, metal sputtering targets have become indispensable in high-tech industries.

What Technological Advancements Are Shaping the Development of Sputtering Targets?

Improvements in metallurgy, powder processing, and hot isostatic pressing (HIP) are enhancing the density, grain size uniformity, and mechanical stability of sputtering targets. These characteristics are crucial for maintaining sputtering yield and extending target life, particularly in high-power and long-cycle deposition systems. Alloyed and composite targets are also being engineered to provide multifunctional properties-for instance, combining conductivity with corrosion resistance or modifying optical reflectivity.

Advanced bonding techniques, such as diffusion bonding and electron-beam welding, are ensuring better adhesion between the target and backing plates, improving thermal performance and reducing arcing during deposition. Target shaping technologies, including rotatable and curved designs, are enabling more uniform erosion and longer run times in large-area or high-throughput applications. As deposition moves into atomic-layer and ultra-thin regimes, precision machining and purity control are becoming critical to meet stringent specifications.

Which Industries and Applications Are Driving Global Demand for Metal Sputtering Targets?

The semiconductor industry remains the dominant consumer of metal sputtering targets, particularly in the fabrication of integrated circuits, MEMS, and power devices where ultra-thin, defect-free metal films are critical. With the rise of advanced nodes and 3D chip architectures, materials like copper, tungsten, and tantalum are in high demand for interconnects and barrier layers. In the data storage sector, magnetic thin films created via sputtering are vital for hard disk platters and emerging spintronic devices.

Flat-panel displays and touchscreens use sputtered metal layers for electrodes and transparent conductive coatings, especially in OLED and TFT-LCD production. Solar panel manufacturing, particularly thin-film technologies such as CIGS and CdTe, also relies on metal targets for contact and absorber layers. Aerospace, defense, and optical industries use sputtered coatings for reflective layers, thermal barriers, and anti-corrosion applications. As industries transition to smart surfaces, miniaturized devices, and energy-efficient coatings, demand for tailored sputtering targets is expanding rapidly.

The Growth in the Metal Sputtering Target Materials Market Is Driven by Several Factors…

The growth in the metal sputtering target materials market is driven by several factors including expanding semiconductor and display manufacturing, increasing adoption of thin-film solar technologies, and rising demand for advanced coatings in optical, medical, and aerospace industries. Technological advancements in sputtering systems, demand for ultra-pure and custom alloy targets, and the miniaturization of electronic devices are all pushing material performance requirements. The ongoing scaling of integrated circuits, rising investment in green energy, and diversification of application areas-from automotive electronics to flexible displays-are ensuring robust, sustained demand for high-performance metal sputtering targets worldwide.

SCOPE OF STUDY:

The report analyzes the Metal Sputtering Target Materials market in terms of units by the following Segments, and Geographic Regions/Countries:

Segments:

Type (Pure Metal, Alloy); Application (Semiconductor, Solar Energy, Flat Panel Display)

Geographic Regions/Countries:

World; United States; Canada; Japan; China; Europe (France; Germany; Italy; United Kingdom; Spain; Russia; and Rest of Europe); Asia-Pacific (Australia; India; South Korea; and Rest of Asia-Pacific); Latin America (Argentina; Brazil; Mexico; and Rest of Latin America); Middle East (Iran; Israel; Saudi Arabia; United Arab Emirates; and Rest of Middle East); and Africa.

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TABLE OF CONTENTS

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II. EXECUTIVE SUMMARY

III. MARKET ANALYSIS

IV. COMPETITION

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