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세계의 반도체 ICP-MS 시스템 시장
Semiconductor ICP-MS System
상품코드 : 1737408
리서치사 : Market Glass, Inc. (Formerly Global Industry Analysts, Inc.)
발행일 : 2025년 05월
페이지 정보 : 영문 319 Pages
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한글목차

반도체 ICP-MS 시스템 세계 시장은 2030년까지 2억 4,750만 달러에 달할 전망

2024년에 2억 달러로 추정되는 반도체 ICP-MS 시스템 세계 시장은 2030년에는 2억 4,750만 달러에 달하고, 분석 기간인 2024-2030년 CAGR은 3.6%로 성장할 것으로 예측됩니다. 반도체 ICP-MS 시스템 보고서에서 분석한 부문 중 하나인 하드웨어는 CAGR 2.7%를 기록하며 분석 기간 종료시에는 1억 5,380만 달러에 달할 것으로 예측됩니다. 반도체 ICP-MS 시스템 소프트웨어 분야의 성장률은 분석 기간 동안 CAGR 5.2%로 추정됩니다.

미국 시장은 5,260만 달러로 추정, 중국은 CAGR 3.6%로 성장 예측

미국의 반도체 ICP-MS 시스템 시장은 2024년에 5,260만 달러로 추정됩니다. 세계 2위 경제 대국인 중국은 분석 기간 2024년부터 2030년까지 CAGR 3.6%로 성장하여 2030년에는 예측 시장 규모 4,010만 달러에 달할 것으로 예측됩니다. 기타 주목할 만한 지역별 시장으로는 일본과 캐나다가 있고, 분석 기간 동안 CAGR은 각각 3.2%와 3.3%로 예측됩니다. 유럽에서는 독일이 CAGR 3.1%로 성장할 것으로 예측됩니다.

세계의 반도체 ICP-MS 시스템 시장 - 주요 동향과 촉진요인 정리

ICP-MS가 반도체 미량 분석의 게임 체인저가 되는 이유는?

ICP-MS(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry) 시스템은 초미량 원소 분석의 필요성으로 인해 반도체 제조에 필수적인 도구로 빠르게 자리 잡고 있습니다. ICP-MS는 공정 화학제품, 초순수, 웨이퍼 표면의 금속 불순물, 초순수 및 웨이퍼 표면의 금속 불순물을 매우 높은 정확도로 검출 및 정량할 수 있는 탁월한 감도를 제공합니다. 검출 및 정량할 수 있습니다. 이 기능은 수율을 유지하고, 결함을 방지하고, 점점 더 까다로워지는 품질 보증 기준을 충족하는 데 매우 중요합니다. 반도체 등급 ICP-MS 시스템은 고처리량, 고순도 환경을 위해 특별히 설계되었으며, 반복성을 보장하기 위해 자동 시료 주입 시스템과 통합되는 경우가 많습니다. 산업계는 해상도 및 검출 요구 사항에 따라 4극, 3중 4극, 비행시간(TOF) ICP-MS 구성으로 전환하고 있으며, EUV 리소그래피 및 3D 장치 구조로의 전환은 복잡한 습식 공정 중 오염 물질을 모니터링하기 위해 ICP-MS에 대한 수요를 더욱 증가시키고 있습니다. 모니터링에 대한 수요를 더욱 증가시키고 있습니다. 지속가능성에 대한 관심이 높아지면서 ICP-MS는 제조 공정에서 사용되는 화학제품과 물의 재활용 및 재생 전략을 가능하게 하는 데에도 도움이 되고 있습니다. 재료의 순도가 나노미터 단위의 장치 성능에 필수적인 역할을 하는 만큼, ICP-MS와 같은 신뢰할 수 있는 고속의 초민감성 분석 도구의 중요성은 아무리 강조해도 지나치지 않습니다.

차세대 팹용 ICP-MS 툴은 어떤 혁신이 차세대 팹용 ICP-MS 툴을 형성하고 있는가?

초저 검출 하한과 강력한 자동화에 대한 반도체 업계의 요구는 ICP-MS 시스템 아키텍처와 워크플로우 통합에 대한 빠른 기술 혁신을 촉진하고 있습니다. 최신 시스템은 매트릭스 원소의 간섭을 제거하고 복잡한 반도체 매트릭스에서 정확도를 향상시키는 충돌/반응 셀 기술을 갖추고 있습니다. 소프트웨어 혁신은 다원소 분석과 컴플라이언스 추적을 간소화하고, 통합된 로봇과 오토샘플러는 인적 오류를 최소화하고 처리량을 향상시킵니다. 벤더는 또한 시스템 설치 공간, 소음 수준 및 아르곤 가스 소비량을 줄이는 데 중점을 두었습니다. 다중 채널 검출기를 갖춘 고해상도 ICP-MS 장비는 다원소 동시 검출을 위해 인기를 얻고 있으며, 팹 환경에서 빠른 처리 시간을 지원합니다. 또한, ICP-MS와 발광 분광 분석(ICP-OES)을 결합하여 분석 범위를 확대하는 하이브리드 시스템도 등장하고 있습니다. 이러한 장비는 실시간 데이터 액세스 및 감사 가능성을 위해 실험실 정보 관리 시스템(LIMS)과 점점 더 많이 연결되고 있습니다. 또한, 에어로졸 발생 및 마이크로 분무기 기술의 발전으로 고저항 재료와 복잡한 유기 금속 화합물에서 금속을 보다 정확하게 검출할 수 있게 되었습니다. 제조 공장이 무공해 정밀도를 요구함에 따라 ICP-MS 툴의 진화는 결함 관리뿐만 아니라 R&D 환경에서 신소재의 적격성 확인에도 필수적인 요소가 되고 있습니다.

세계 반도체 확대와 규제가 미치는 영향은?

세계 반도체 공급망 확대, 정부 재정 지원 프로그램, 재투자 이니셔티브, 팹의 급격한 증가에 힘입어 ICP-MS 시스템을 포함한 첨단 분석 장비에 대한 수요가 크게 증가하고 있습니다. 미국, 중국, 한국, 독일 등 국내 칩 생산에 투자하고 있는 국가들은 엄격한 오염 관리 프로토콜을 의무화하고 있어 고사양의 분석 도구가 필요합니다. 화학제품 폐기 및 물 재사용에 대한 환경 규제가 강화됨에 따라 공장에서는 폐액 및 재생수 모니터링에 ICP-MS에 대한 의존도가 높아지고 있습니다. 무방류(ZLD) 공정과 폐쇄 루프 재활용을 향한 움직임은 모든 단계에서 순도를 검증하는 이러한 시스템의 역할을 더욱 강화시키고 있습니다. ICP-MS는 SEMI 및 ICH 가이드라인과 같은 국제 순도 표준 준수를 보장하고, 이러한 애플리케이션에서 품질 보증의 중요한 계층을 제공하는 ICP-MS는 특히 방위, 항공우주 및 의료 부문을 대상으로 하는 주조에서 공급망 추적성 및 재료의 적격성 확인에 대한 관심이 증가하고 있습니다. 품질 보증의 중요한 계층을 제공합니다. 현재 반도체 인력 부족으로 인해 측정 워크플로우를 자동화하고 ICP-MS를 24시간 365일 무인 공정 실험실에 통합하는 추세입니다. 반도체 제조의 지리적 분포가 다양해짐에 따라 지역 기반 서비스, 교정 및 인증 역량에 대한 수요도 증가하고 있으며, 이는 지역 장비 공급업체와 서비스 제공업체에 기회를 제공하고 있습니다.

반도체 ICP-MS 시스템 시장의 성장은 몇 가지 요인에 의해 초래됩니다 ...

반도체 ICP-MS 시스템 시장의 성장은 공정 노드의 미세화, 반도체 재료의 복잡성, 규제 순도 기준, 세계 팹의 급속한 확장 등 여러 요인에 의해 주도되고 있습니다. 기술적으로는 간섭 제거, 마이크로 샘플링, AI를 활용한 자동화 등의 기술 혁신이 시스템의 신뢰성과 운영 효율성을 높이고 있습니다. 최종 용도 측면에서는 로직, 메모리, 화합물 반도체 소자의 급증으로 수율과 수명을 유지하기 위한 정밀한 원소 분석이 요구되고 있으며, EUV 리소그래피, 3D NAND, 첨단 패키징의 성장으로 습식 화학, 에칭, 증착 공정에서 불순물 관리의 필요성이 증가하고 있습니다. ICP-MS 기반의 검증이 요구되고 있습니다. 반도체 공장에 서비스를 제공하는 화학제품 및 초순수 공급업체로부터의 시장 수요도 증가하고 있으며, 이들 공급업체는 현재 더 엄격한 불순물 기준을 충족해야 합니다. 또한, 반도체 공장은 다운타임을 줄이고 수율에 도달하는 시간을 단축하기 위해 인라인 및 니어라인 측정 도구에 투자하고 있으며, 이는 더 높은 자동화 및 통합 기능을 갖춘 ICP-MS 시스템의 채택을 촉진하고 있습니다. 더 작고, 더 빠르고, 더 에너지 효율적인 칩을 찾는 소비자 트렌드는 오염 민감도의 한계를 높이고 미량 금속 분석의 전략적 중요성을 강화하고 있습니다. 이러한 추세의 수렴은 반도체 제조 생태계에 맞춘 특수 ICP-MS 솔루션의 높은 성장 환경을 조성하고 있습니다.

부문

제공(반도체 ICP-MS 시스템 하드웨어, 반도체 ICP-MS 시스템 소프트웨어), 기술(사중극자형 ICP-MS, 싱글 사중극자형 ICP-MS, 삼중 사중극자형 ICP-MS, 멀티 콜렉터 ICP-MS, 고분해능 ICP-MS), 설치(실험실 설치, 프로세스 설치), 용도(웨이퍼 분석 용도, 슬러리 분석 용도, 프로세스 화학 분석 용도, 유기화학 분석 용도, 금속·반금속 분석 용도, 기타 용도), 최종 용도(IDM 최종 용도, 주조 최종 용도)

조사 대상 기업 사례(총 34개사)

관세 영향 계수

Global Industry Analysts는 본사의 국가, 제조거점, 수출입(완제품 및 OEM)을 기반으로 기업의 경쟁력 변화를 예측하고 있습니다. 이러한 복잡하고 다면적인 시장 역학은 인위적인 매출원가 증가, 수익성 감소, 공급망 재편 등 미시적 및 거시적 시장 역학 중에서도 특히 경쟁사들에게 영향을 미칠 것으로 예상됩니다.

Global Industry Analysts는 세계 주요 수석 이코노미스트(1,4,949명), 싱크탱크(62개 기관), 무역 및 산업 단체(171개 기관)의 전문가들의 의견을 면밀히 검토하여 생태계에 미치는 영향을 평가하고 새로운 시장 현실에 대응하고 있습니다. 모든 주요 국가의 전문가와 경제학자들이 관세와 그것이 자국에 미치는 영향에 대한 의견을 추적 조사하고 있습니다.

Global Industry Analysts는 이러한 혼란이 향후 2-3개월 내에 마무리되고 새로운 세계 질서가 보다 명확하게 확립될 것으로 예상하고 있으며, Global Industry Analysts는 이러한 상황을 실시간으로 추적하고 있습니다.

2025년 4월 : 협상 단계

이번 4월 보고서에서는 관세가 세계 시장 전체에 미치는 영향과 지역별 시장 조정에 대해 소개합니다. 당사의 예측은 과거 데이터와 진화하는 시장 영향요인을 기반으로 합니다.

2025년 7월 : 최종 관세 재설정

고객님들께는 각 국가별 최종 리셋이 발표된 후 7월에 무료 업데이트 버전을 제공해 드립니다. 최종 업데이트 버전에는 명확하게 정의된 관세 영향 분석이 포함되어 있습니다.

상호 및 양자 간 무역과 관세의 영향 분석:

미국 <> 중국 <> 멕시코 <> 캐나다 <> EU <> 일본 <> 인도 <> 기타 176개국

업계 최고의 이코노미스트 : Global Industry Analysts의 지식 기반은 국가, 싱크탱크, 무역 및 산업 단체, 대기업, 그리고 세계 계량 경제 상황의 전례 없는 패러다임 전환의 영향을 공유하는 분야별 전문가 등 가장 영향력 있는 수석 이코노미스트를 포함한 14,949명의 이코노미스트를 추적하고 있습니다. 16,491개 이상의 보고서 대부분에 마일스톤에 기반한 2단계 출시 일정이 적용되어 있습니다.

목차

제1장 조사 방법

제2장 주요 요약

제3장 시장 분석

제4장 경쟁

ksm
영문 목차

영문목차

Global Semiconductor ICP-MS System Market to Reach US$247.5 Million by 2030

The global market for Semiconductor ICP-MS System estimated at US$200.0 Million in the year 2024, is expected to reach US$247.5 Million by 2030, growing at a CAGR of 3.6% over the analysis period 2024-2030. Semiconductor ICP-MS System Hardware, one of the segments analyzed in the report, is expected to record a 2.7% CAGR and reach US$153.8 Million by the end of the analysis period. Growth in the Semiconductor ICP-MS System Software segment is estimated at 5.2% CAGR over the analysis period.

The U.S. Market is Estimated at US$52.6 Million While China is Forecast to Grow at 3.6% CAGR

The Semiconductor ICP-MS System market in the U.S. is estimated at US$52.6 Million in the year 2024. China, the world's second largest economy, is forecast to reach a projected market size of US$40.1 Million by the year 2030 trailing a CAGR of 3.6% over the analysis period 2024-2030. Among the other noteworthy geographic markets are Japan and Canada, each forecast to grow at a CAGR of 3.2% and 3.3% respectively over the analysis period. Within Europe, Germany is forecast to grow at approximately 3.1% CAGR.

Global "Semiconductor ICP-MS System" Market - Key Trends & Drivers Summarized

Why Is ICP-MS Becoming a Game-Changer in Semiconductor Trace Analysis?

Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICP-MS) systems are rapidly becoming indispensable tools in semiconductor manufacturing, driven by the need for ultra-trace level elemental analysis. As device geometries shrink and contamination tolerances approach parts-per-trillion levels, traditional analysis techniques are no longer sufficient. ICP-MS offers unmatched sensitivity, allowing fabs to detect and quantify metal impurities in process chemicals, ultrapure water, and wafer surfaces with exceptional accuracy. This capability is crucial for maintaining yield, preventing defects, and meeting increasingly stringent quality assurance standards. Semiconductor-grade ICP-MS systems are specifically engineered for high-throughput, high-purity environments and are often integrated with automated sample introduction systems to ensure reproducibility. Industries are turning to quadrupole, triple quadrupole, and time-of-flight (TOF) ICP-MS configurations depending on their resolution and detection requirements. The move toward EUV lithography and 3D device structures further increases the demand for ICP-MS to monitor contaminants introduced during complex wet processes. With the growing focus on sustainability, ICP-MS is also instrumental in enabling recycling and reclaim strategies for chemicals and water used in fab operations. As the role of materials purity becomes critical to nanometer-scale device performance, the importance of reliable, fast, and ultra-sensitive analytical tools like ICP-MS cannot be overstated.

What Innovations Are Shaping the Next Generation of ICP-MS Tools for Fabs?

The semiconductor industry's demand for ultra-low detection limits and robust automation is driving rapid innovation in ICP-MS system architecture and workflow integration. Modern systems are now equipped with collision/reaction cell technology that eliminates interferences from matrix elements, enhancing accuracy in complex semiconductor matrices. Software innovations are streamlining multielement analysis and compliance tracking, while integrated robotics and autosamplers are minimizing human error and increasing throughput. Vendors are also focusing on reducing system footprint, noise levels, and argon gas consumption-factors that contribute to operational cost and cleanroom suitability. High-resolution ICP-MS instruments with multichannel detectors are gaining popularity for simultaneous multielement detection, supporting rapid turnaround times in fab environments. There is also a trend toward hybrid systems that combine ICP-MS with optical emission spectroscopy (ICP-OES) to extend analytical coverage. These instruments are increasingly linked with Laboratory Information Management Systems (LIMS) for real-time data access and auditability. Additionally, advancements in aerosol generation and micro-nebulization techniques are enabling more accurate detection of metals in high-resistance materials and complex organometallic compounds. As fabs demand zero-contamination precision, the evolution of ICP-MS tools is becoming essential not only for defect control but also for qualifying new materials in R&D settings.

How Are Global Semiconductor Expansion and Regulatory Forces Influencing Adoption?

The global semiconductor supply chain expansion-driven by government funding programs, reshoring initiatives, and fab proliferation-is significantly boosting demand for advanced analytical instrumentation, including ICP-MS systems. Nations investing in domestic chip production, including the U.S., China, South Korea, and Germany, are mandating rigorous contamination control protocols, which require high-spec analytical tools. Environmental regulations concerning chemical disposal and water reuse are also tightening, prompting fabs to increase their reliance on ICP-MS to monitor effluents and reclaim streams. The move toward zero-liquid-discharge (ZLD) processes and closed-loop recycling further elevates the role of these systems in validating purity at every stage. Supply chain traceability and material qualification are growing concerns, especially for foundries serving defense, aerospace, and medical sectors. ICP-MS provides a critical layer of quality assurance across these applications, ensuring compliance with international purity standards such as SEMI and ICH guidelines. The current semiconductor talent shortage has also encouraged automation in metrology workflows, leading to the integration of ICP-MS into unattended, 24/7 process labs. As the geographic footprint of semiconductor production diversifies, so too does the demand for localized service, calibration, and certification capabilities-creating opportunities for regional instrument suppliers and service providers.

The Growth In The Semiconductor ICP-MS System Market Is Driven By Several Factors...

The growth in the semiconductor ICP-MS system market is driven by several factors including shrinking process nodes, increasing complexity of semiconductor materials, regulatory purity standards, and rapid fab expansion globally. Technologically, innovations in interference removal, micro-sampling, and AI-powered automation are enhancing system reliability and operational efficiency. On the end-use side, the proliferation of logic, memory, and compound semiconductor devices demands precise elemental analysis to maintain yield and longevity. Growth in EUV lithography, 3D NAND, and advanced packaging has increased the need for impurity control during wet chemical, etching, and deposition steps-all of which require ICP-MS-based verification. Market demand is also rising from chemical and ultrapure water suppliers serving semiconductor fabs, who must now meet tighter impurity specs. Additionally, fabs are investing in inline and near-line metrology tools to reduce downtime and accelerate time-to-yield, driving adoption of ICP-MS systems with higher automation and integration capabilities. Consumer trends toward smaller, faster, and more energy-efficient chips are pushing the limits of contamination sensitivity, reinforcing the strategic importance of trace metals analysis. The convergence of these trends is creating a high-growth environment for specialized ICP-MS solutions tailored to the semiconductor manufacturing ecosystem.

SCOPE OF STUDY:

The report analyzes the Semiconductor ICP-MS System market in terms of units by the following Segments, and Geographic Regions/Countries:

Segments:

Offering (Semiconductor ICP-MS System Hardware, Semiconductor ICP-MS System Software); Technology (Quadrupole Based ICP-MS, Single Quadrupole ICP-MS, Triple Quadrupole ICP-MS, Multicollector ICP-MS, High Resolution ICP-MS); Installation (Laboratory Installation, Process Installation); Application (Wafer Analysis Application, Slurry Analysis Application, Process Chemicals Analysis Application, Organic Chemical Analysis Application, Metal & Semi-metal Analysis Application, Other Applications); End-Use (IDM End-Use, Foundry End-Use)

Geographic Regions/Countries:

World; United States; Canada; Japan; China; Europe (France; Germany; Italy; United Kingdom; and Rest of Europe); Asia-Pacific; Rest of World.

Select Competitors (Total 34 Featured) -

TARIFF IMPACT FACTOR

Our new release incorporates impact of tariffs on geographical markets as we predict a shift in competitiveness of companies based on HQ country, manufacturing base, exports and imports (finished goods and OEM). This intricate and multifaceted market reality will impact competitors by artificially increasing the COGS, reducing profitability, reconfiguring supply chains, amongst other micro and macro market dynamics.

We are diligently following expert opinions of leading Chief Economists (14,949), Think Tanks (62), Trade & Industry bodies (171) worldwide, as they assess impact and address new market realities for their ecosystems. Experts and economists from every major country are tracked for their opinions on tariffs and how they will impact their countries.

We expect this chaos to play out over the next 2-3 months and a new world order is established with more clarity. We are tracking these developments on a real time basis.

As we release this report, U.S. Trade Representatives are pushing their counterparts in 183 countries for an early closure to bilateral tariff negotiations. Most of the major trading partners also have initiated trade agreements with other key trading nations, outside of those in the works with the United States. We are tracking such secondary fallouts as supply chains shift.

To our valued clients, we say, we have your back. We will present a simplified market reassessment by incorporating these changes!

APRIL 2025: NEGOTIATION PHASE

Our April release addresses the impact of tariffs on the overall global market and presents market adjustments by geography. Our trajectories are based on historic data and evolving market impacting factors.

JULY 2025 FINAL TARIFF RESET

Complimentary Update: Our clients will also receive a complimentary update in July after a final reset is announced between nations. The final updated version incorporates clearly defined Tariff Impact Analyses.

Reciprocal and Bilateral Trade & Tariff Impact Analyses:

USA <> CHINA <> MEXICO <> CANADA <> EU <> JAPAN <> INDIA <> 176 OTHER COUNTRIES.

Leading Economists - Our knowledge base tracks 14,949 economists including a select group of most influential Chief Economists of nations, think tanks, trade and industry bodies, big enterprises, and domain experts who are sharing views on the fallout of this unprecedented paradigm shift in the global econometric landscape. Most of our 16,491+ reports have incorporated this two-stage release schedule based on milestones.

COMPLIMENTARY PREVIEW

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TABLE OF CONTENTS

I. METHODOLOGY

II. EXECUTIVE SUMMARY

III. MARKET ANALYSIS

IV. COMPETITION

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