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세계의 포토레지스트 및 부속품 시장
Photoresists and Ancillaries
상품코드 : 1662061
리서치사 : Global Industry Analysts, Inc.
발행일 : 2025년 02월
페이지 정보 : 영문 449 Pages
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한글목차

세계 포토레지스트 및 부속품 시장은 2030년까지 58억 달러에 이를 전망

2024년에 42억 달러로 추정되는 포토레지스트 및 부속품 세계 시장은 2024-2030년간 CAGR 5.6%로 성장하여 2030년에는 58억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 본 보고서에서 분석한 부문 중 하나인 G선 포토레지스트는 CAGR 6.3%를 나타내고, 분석 기간 종료시에는 25억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. ArF 액침 포토레지스트 부문의 성장률은 분석 기간에 CAGR 5.7%를 나타낼 전망입니다.

미국 시장은 11억 달러로 추정, 중국은 CAGR 8.7%로 성장 예측

미국의 포토레지스트 및 부속품 시장은 2024년에 11억 달러에 이른 것으로 추정됩니다. 세계 2위 경제대국인 중국은 2030년까지 13억 달러 규모에 이를 것으로 예측되며, 분석 기간인 2024-2030년간 CAGR은 8.7%를 나타낼 전망입니다. 기타 주목해야 할 지역별 시장으로서는 일본과 캐나다가 있으며, 분석 기간중 CAGR은 각각 3.3%와 4.5%를 나타낼 것으로 예측됩니다. 유럽에서는 독일이 CAGR 약 4.0%로 성장할 것으로 예측됩니다.

포토레지스트 및 부속품 - 주요 동향과 성장 촉진요인

포토레지스트 및 액세서리는 반도체 제조 및 기타 미세공정용 포토리소그래피 공정에 사용되는 중요한 재료입니다. 포토레지스트는 자외선(UV)을 조사하면 기판에 패턴을 형성하는 감광성 물질로, 반도체 웨이퍼에 복잡한 디자인을 에칭할 수 있게 해줍니다. 이러한 패턴은 집적회로 및 미세전자기계시스템(MEMS)에서 볼 수 있는 복잡한 회로를 구축하기 위한 템플릿 역할을 합니다. 포토레지스트는 크게 포지티브와 네거티브 두 가지 유형이 있습니다. 포지티브 포토레지스트는 자외선을 조사하면 용해되어 노출된 영역을 씻어낼 수 있지만, 네거티브 포토레지스트는 불용성이 되어 노출된 영역은 그대로 남습니다. 현상액, 엣지 비드 제거제, 접착 촉진제, 반사 방지 코팅제 등의 보조제는 접착력을 높이고, 해상도를 향상시키며, 정확한 패턴 전사를 보장함으로써 포토레지스트 공정을 지원합니다.

최근 포토레지스트 및 액세서리 시장 동향은 첨단 반도체 노드의 추진과 고해상도 패터닝의 필요성을 강조하고 있습니다. 전자기기의 소형화, 고속화, 저전력화에 대한 요구가 증가함에 따라 반도체 산업은 10nm 이하의 제조 공정으로 전환하고 있습니다. 이러한 미세화에는 더 높은 감도와 해상도를 가진 포토레지스트가 필요합니다. 이러한 가운데, 기존의 딥 자외선(DUV) 리소그래피에 비해 더 미세한 패터닝이 가능한 극자외선(EUV) 리소그래피의 중요성이 커지고 있으며, EUV 전용 포토레지스트와 이에 대응하는 보조 재료의 개발은 연구자와 제조업체의 중요한 초점이 되고 있습니다. 또한, 재료 과학의 혁신으로 인해 침식성이 높은 에칭 공정을 견디고 차세대 반도체 소자의 성능을 향상시킬 수 있는 새로운 포토레지스트 제형이 개발되고 있습니다.

포토레지스트 및 액세서리 시장의 성장은 몇 가지 요인에 의해 주도되고 있습니다. 첫째, 반도체 기술의 급속한 발전, 특히 EUV 리소그래피로의 전환은 첨단 용도에 필요한 해상도와 감도를 달성할 수 있는 고급 포토레지스트 재료에 대한 높은 수요를 창출하고 있습니다. 둘째, 스마트폰, 태블릿, 웨어러블 기기 등 가전제품의 보급으로 반도체 부품의 소형화, 고효율화가 진행되면서 고성능 포토리소그래피 재료에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 셋째, 첨단운전자보조시스템(ADAS), 전기자동차(EV), 자율주행 기술에 대한 자동차 업계의 반도체 기술 의존도가 높아지면서 시장 성장을 더욱 촉진하고 있습니다. 또한, 사물인터넷(IoT)의 부상과 5G 네트워크의 보급 확대는 더욱 고도의 고밀도 반도체 디바이스의 필요성을 높이고 있습니다. 이러한 기술 발전과 다양한 산업 분야에서 반도체의 적용 확대는 포토레지스트 및 액세서리 시장의 강력한 성장을 가속하고 있으며, 이는 현대 기술의 지속적인 발전에 있어 반도체의 중요한 역할을 강조하고 있습니다.

부문

유형(G-라인, ArF 침지형 포토레지스트, KrF 포토레지스트, ArF 건식 포토레지스트, I-라인 포토레지스트); 애플리케이션(반도체 및 IC, 인쇄 회로 기판, LCD, 기타 애플리케이션)

조사 대상 기업 예(주요 12개사)

목차

제1장 조사 방법

제2장 주요 요약

제3장 시장 분석

제4장 경쟁

LSH
영문 목차

영문목차

Global Photoresists and Ancillaries Market to Reach US$5.8 Billion by 2030

The global market for Photoresists and Ancillaries estimated at US$4.2 Billion in the year 2024, is expected to reach US$5.8 Billion by 2030, growing at a CAGR of 5.6% over the analysis period 2024-2030. G-line Photoresist, one of the segments analyzed in the report, is expected to record a 6.3% CAGR and reach US$2.5 Billion by the end of the analysis period. Growth in the ArF Immersion Photoresist segment is estimated at 5.7% CAGR over the analysis period.

The U.S. Market is Estimated at US$1.1 Billion While China is Forecast to Grow at 8.7% CAGR

The Photoresists and Ancillaries market in the U.S. is estimated at US$1.1 Billion in the year 2024. China, the world's second largest economy, is forecast to reach a projected market size of US$1.3 Billion by the year 2030 trailing a CAGR of 8.7% over the analysis period 2024-2030. Among the other noteworthy geographic markets are Japan and Canada, each forecast to grow at a CAGR of 3.3% and 4.5% respectively over the analysis period. Within Europe, Germany is forecast to grow at approximately 4.0% CAGR.

Photoresists and Ancillaries - Key Trends and Drivers

Photoresists and ancillaries are crucial materials used in the photolithography process for semiconductor manufacturing and other microfabrication applications. Photoresists are light-sensitive materials that form patterns on a substrate when exposed to ultraviolet (UV) light, enabling the etching of intricate designs onto semiconductor wafers. These patterns serve as templates for building the complex circuitry found in integrated circuits and microelectromechanical systems (MEMS). There are two main types of photoresists: positive and negative. Positive photoresists become soluble when exposed to UV light, allowing the exposed regions to be washed away, whereas negative photoresists become insoluble, leaving the exposed regions intact. Ancillaries, which include developers, edge bead removers, adhesion promoters, and anti-reflective coatings, support the photoresist process by enhancing adhesion, improving resolution, and ensuring accurate pattern transfer.

Recent trends in the photoresists and ancillaries market highlight the push towards advanced semiconductor nodes and the need for high-resolution patterning. As the demand for smaller, faster, and more power-efficient electronic devices grows, the semiconductor industry is moving towards manufacturing processes at sub-10nm scales. This miniaturization requires photoresists with higher sensitivity and resolution capabilities. Extreme Ultraviolet (EUV) lithography is becoming increasingly important in this context, as it allows for finer patterning compared to traditional deep ultraviolet (DUV) lithography. The development of EUV-specific photoresists and corresponding ancillaries is a significant focus for researchers and manufacturers. Additionally, innovations in materials science are leading to the creation of novel photoresist formulations that can better withstand the aggressive etching processes and offer improved performance for next-generation semiconductor devices.

The growth in the photoresists and ancillaries market is driven by several factors. Firstly, the rapid advancement in semiconductor technology, particularly the shift towards EUV lithography, is creating a high demand for advanced photoresist materials that can achieve the necessary resolution and sensitivity for cutting-edge applications. Secondly, the proliferation of consumer electronics, such as smartphones, tablets, and wearable devices, is fueling the demand for smaller and more efficient semiconductor components, thereby increasing the need for high-performance photolithography materials. Thirdly, the automotive industry’s growing reliance on semiconductor technology for advanced driver-assistance systems (ADAS), electric vehicles (EVs), and autonomous driving technologies is further propelling market growth. Additionally, the rise of the Internet of Things (IoT) and the increasing deployment of 5G networks are driving the need for more sophisticated and densely packed semiconductor devices. These technological advancements and the expanding applications of semiconductors across various industries are collectively driving the robust growth of the photoresists and ancillaries market, highlighting its critical role in the ongoing evolution of modern technology.

SCOPE OF STUDY:

The report analyzes the Photoresists and Ancillaries market in terms of units by the following Segments, and Geographic Regions/Countries:

Segments:

Type (G-line, ArF Immersion Photoresist, KrF Photoresist, ArF Dry Photoresist, I-line Photoresist); Application (Semiconductors & ICs, Printed Circuit Boards, LCDs, Other Applications)

Geographic Regions/Countries:

World; United States; Canada; Japan; China; Europe (France; Germany; Italy; United Kingdom; Spain; Russia; and Rest of Europe); Asia-Pacific (Australia; India; South Korea; and Rest of Asia-Pacific); Latin America (Argentina; Brazil; Mexico; and Rest of Latin America); Middle East (Iran; Israel; Saudi Arabia; United Arab Emirates; and Rest of Middle East); and Africa.

Select Competitors (Total 12 Featured) -

TABLE OF CONTENTS

I. METHODOLOGY

II. EXECUTIVE SUMMARY

III. MARKET ANALYSIS

IV. COMPETITION

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