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세계의 리소그래피 계측 장비 시장
Lithography Metrology Equipment
상품코드 : 1559724
리서치사 : Global Industry Analysts, Inc.
발행일 : 2024년 09월
페이지 정보 : 영문 232 Pages
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한글목차

리소그래피 계측 장비 세계 시장은 2030년까지 28억 달러에 달할 전망

2023년에 19억 달러로 추정되는 리소그래피 계측 장비 세계 시장은 분석 기간 2023-2030년에 CAGR 5.8%로 성장하며 2030년에는 28억 달러에 이를 것으로 예측됩니다. 이 보고서에서 분석한 부문 중 하나인 파운드리 최종 용도는 CAGR 5.2%로 성장을 지속하고, 분석 기간 종료까지 13억 달러에 달할 것으로 예측됩니다. 메모리 최종 용도 분야의 성장률은 분석 기간 동안 CAGR 5.9%로 추정됩니다.

미국 시장은 추정 5억 5,440만 달러, 중국은 CAGR 5.4%로 성장 예측

미국 리소그래피 계측 장비 시장은 2023년 5억 5,440만 달러로 추정됩니다. 세계 2위 경제대국인 중국은 2023-2030년간 CAGR 5.4%로 성장을 지속하여 2030년에는 4억 8,690만 달러 규모에 이를 것으로 예측되고 있습니다. 기타 주목할 만한 지역별 시장으로는 일본과 캐나다가 있으며, 분석 기간 중 CAGR은 각각 5.1%와 4.8%로 예측되고 있습니다. 유럽에서는 독일이 CAGR 4.5%로 성장할 것으로 예측됩니다.

세계 리소그래피 계측 장비 시장 - 주요 동향 및 촉진요인 요약

리소그래피 계측 장비란 무엇이며 반도체 산업에 어떤 영향을 미치는가?
리소그래피 계측 장비는 반도체 제조 공정에서 매우 중요하며, 반도체 웨이퍼 상에 복잡한 회로 패턴을 인쇄하는 포토리소그래피 공정의 정확성과 유효성을 보장하는 중요한 측정치를 제공합니다. 이 장치는 보다 강력하고 효율적인 전자기기에 대한 요구를 충족시키기 위해 지속적으로 축소된 회로의 패턴 충실도와 중요한 치수를 측정하여 반도체 디바이스의 품질을 평가하고 보장합니다. 칩의 피처 크기가 나노미터 스케일에 가까워짐에 따라 리소그래피 계측 장비의 정확도와 정확도가 매우 중요해집니다. 이 기술은 칩의 성능 향상을 지원할 뿐만 아니라 반도체 제조의 수율과 제조 비용에도 크게 영향을 미칩니다.

기술의 진보는 리소그래피 계측 장비를 어떻게 진화시키고 있는가?
기술의 진보는 리소그래피 계측 장비를 끊임없이 변화시켜 그 능력을 크게 향상시키고 있습니다. 극단 자외선(EUV) 리소그래피와 같은 최첨단 기술의 통합은 측정되는 피처의 스케일이 매우 작기 때문에 측정 장비에 전례 없는 정확도를 요구합니다. 이미징 기술, 오버레이 계측, 전자 현미경의 혁신에 의해 계측의 분해능과 정밀도가 향상되어 반도체 기술의 급속한 진보에 대응할 수 있게 되었습니다. 게다가 인공지능(AI)에 의한 이미지 처리와 데이터 분석을 포함한 소프트웨어의 진보로 보다 신속하고 정확한 데이터 분석이 가능해지고 있습니다. 이는 속도와 정확도가 생산성과 비용 효과에 직접 영향을 미치는 대량 생산 환경에서 매우 중요합니다.

리소그래피 계측 장비 시장이 직면하는 과제란?
리소그래피 계측 장비 시장은 그 중요성에도 불구하고 성장과 업무 효율성에 영향을 줄 수 있는 몇 가지 과제에 직면하고 있습니다. 주요 과제 중 하나는 최첨단 계측 장비의 개발 및 유지와 관련된 높은 비용이며, 특히 비용 관리가 최우선 순위가 되는 경쟁이 심한 시장에서는 제조업체에게 큰 장벽이 될 수 있습니다. 또한 새로운 계측기술을 기존 제조라인에 통합하는 복잡성도 기술적으로나 재정적으로 큰 과제가 되고 있습니다. 또한, 반도체 기술의 급속한 변화의 속도는 계측 장비가 지속적으로 진화해야 함을 의미하며, 새로운 리소그래피 기술 및 재료에 대응하기 위한 연구 개발(R&D)에 대한 지속적인 한 투자가 필요합니다.

리소그래피 계측 장비 시장의 성장 촉진요인은 무엇인가?
리소그래피 계측 장비 시장의 성장은 여러 요인에 의해 견인되고 있습니다. 주로 무어의 법칙의 끊임없는 추구는 반도체 디바이스의 미세화의 지속적인 발전을 필요로 합니다. 반도체 디바이스 아키텍처의 복잡성과 가전, 자동차, 헬스케어 기기 등의 하이테크 산업에서 반도체의 응용 확대가 보다 정밀한 계측 솔루션 수요에 박차를 가하고 있습니다. 또한 반도체 산업의 신흥 시장으로의 세계 확대와 아시아태평양의 공장 수 증가가 리소그래피 계측 장비 시장에 큰 성장 기회를 가져왔습니다. 또한 환경 규제와 보다 지속 가능한 제조 방법으로의 전환은 보다 효율적인 프로세스를 지원하고 폐기물을 줄이는 계측 기술 혁신을 뒷받침하고 있습니다. 마지막으로, 제조 기술의 자동화와 데이터 교환을 중시하는 Industry 4.0과 같은 새로운 제조 패러다임의 채택은 스마트 제조 공정과 통합된 고급 계측 장비 수요를 끌어올릴 것으로 예상됩니다.

조사 대상 기업 예(전 56건)

목차

제1장 조사 방법

제2장 주요 요약

제3장 시장 분석

제4장 경쟁

JHS
영문 목차

영문목차

Global Lithography Metrology Equipment Market to Reach US$2.8 Billion by 2030

The global market for Lithography Metrology Equipment estimated at US$1.9 Billion in the year 2023, is expected to reach US$2.8 Billion by 2030, growing at a CAGR of 5.8% over the analysis period 2023-2030. Foundry End-Use, one of the segments analyzed in the report, is expected to record a 5.2% CAGR and reach US$1.3 Billion by the end of the analysis period. Growth in the Memory End-Use segment is estimated at 5.9% CAGR over the analysis period.

The U.S. Market is Estimated at US$554.4 Million While China is Forecast to Grow at 5.4% CAGR

The Lithography Metrology Equipment market in the U.S. is estimated at US$554.4 Million in the year 2023. China, the world's second largest economy, is forecast to reach a projected market size of US$486.9 Million by the year 2030 trailing a CAGR of 5.4% over the analysis period 2023-2030. Among the other noteworthy geographic markets are Japan and Canada, each forecast to grow at a CAGR of 5.1% and 4.8% respectively over the analysis period. Within Europe, Germany is forecast to grow at approximately 4.5% CAGR.

Global Lithography Metrology Equipment Market - Key Trends & Drivers Summarized

What Is Lithography Metrology Equipment and How Does It Impact the Semiconductor Industry?
Lithography metrology equipment is pivotal in the semiconductor manufacturing process, providing critical measurements that ensure the accuracy and efficacy of the photolithography steps used to print intricate circuit patterns on semiconductor wafers. This equipment assesses and ensures the quality of the semiconductor devices by measuring pattern fidelity and critical dimensions of the circuits, which are continually shrinking to meet the demands for more powerful and efficient electronics. As feature sizes on chips approach the nanometer scale, the precision and accuracy of lithography metrology equipment become crucial. This technology not only supports the enhancement of chip performance but also significantly influences yield rates and production costs in semiconductor manufacturing.

How Are Technological Advances Shaping the Evolution of Lithography Metrology Equipment?
Technological advancements are continuously reshaping lithography metrology equipment, driving significant improvements in its capabilities. The integration of cutting-edge technologies such as extreme ultraviolet (EUV) lithography requires metrology equipment to operate with unprecedented precision due to the extremely small scale of the features being measured. Innovations in imaging technologies, overlay metrology, and electron microscopy have enhanced the resolution and accuracy of measurements, allowing manufacturers to keep pace with rapid advancements in semiconductor technology. Additionally, advancements in software, including image processing and data analysis driven by artificial intelligence (AI), are enabling faster and more accurate data interpretation, which is critical in a high-volume production environment where speed and accuracy directly impact productivity and cost-effectiveness.

What Challenges Does the Lithography Metrology Equipment Market Face?
Despite its importance, the lithography metrology equipment market faces several challenges that could impact its growth and operational efficiency. One of the major challenges is the high cost associated with developing and maintaining state-of-the-art metrology equipment, which can be a significant barrier for manufacturers, especially in a highly competitive market where cost control is paramount. The complexity of integrating new metrology technologies with existing manufacturing lines also poses significant technical and financial challenges. Furthermore, the rapid pace of change in semiconductor technology means that metrology equipment must constantly evolve, requiring ongoing investment in research and development (R&D) to keep up with new lithographic techniques and materials.

What Are the Growth Drivers for the Lithography Metrology Equipment Market?
The growth in the lithography metrology equipment market is driven by several factors, primarily the relentless pursuit of Moore’s Law, which necessitates continual advancements in semiconductor device miniaturization. The increasing complexity of semiconductor device architectures and the expanding applications of semiconductors in high-tech industries such as consumer electronics, automotive, and healthcare devices spur demand for more precise metrology solutions. Additionally, the global expansion of the semiconductor industry into emerging markets and the increasing number of fabs in regions like Asia Pacific provide substantial growth opportunities for the lithography metrology equipment market. Environmental regulations and the industry's shift toward more sustainable manufacturing practices also encourage innovations in metrology that support more efficient processes and reduce waste. Lastly, the adoption of new manufacturing paradigms such as Industry 4.0, which emphasizes automation and data exchange in manufacturing technologies, is expected to boost the demand for advanced metrology equipment integrated with smart manufacturing processes.

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TABLE OF CONTENTS

I. METHODOLOGY

II. EXECUTIVE SUMMARY

III. MARKET ANALYSIS

IV. COMPETITION

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