극자외선(EUV) 리소그래피 시장 : 세계 및 지역별 분석(2023-2033년)
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market - A Global and Regional Analysis, 2023-2033
상품코드 : 1389601
리서치사 : BIS Research
발행일 : 2023년 12월
페이지 정보 : 영문
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한글목차

세계의 극자외선 리소그래피 시장 규모는 반도체 제조업체가 보다 소형이며 고성능인 마이크로칩을 제조하기 위해 이 첨단 기술을 채택하는 것으로 대폭적인 성장이 전망됩니다.

보다 강력하고 에너지 효율이 높은 전자기기에 대한 수요가 계속 증가하는 가운데 반도체 제조업체는 업계의 진화하는 요구에 대응하기 위해 극자외선 리소그래피에 거액을 투자하고 있습니다.

극자외선 리소그래피 시장 성장의 주요 촉진요인 중 하나는 반도체 제조에서 미세화의 끊임없는 추구입니다. 기존 리소그래피 기술이 물리적인 한계에 가까워지고 있는 가운데 극자외선 리소그래피는 나노미터 사이즈의 칩 제조를 가능하게 하는 획기적인 기술로서 등장했습니다.

또한 반도체 업계내 협업 및 파트너십은 극자외선 리소그래피 시장의 성장을 촉진하는데 있어서 중요한 역할을 담당하고 있습니다. 반도체 장비 제조 부문의 주요 참여 기업은 전략적 제휴를 맺고, 극자외선 리소그래피 기술의 개발과 도입을 가속시키고 있습니다. 이 제휴는 전문 지식, 리소스, 조사 노력의 공유를 촉진하며, 이 첨단 리소그래피 기술의 반도체 제조 프로세스에 대한 신속한 통합에 기여하고 있습니다. 업계 상황이 첨단 마이크로칩 제조의 복잡성을 계속 처리하는 가운데 세계의 극자외선 리소그래피 시장은 반도체 제조에 필수적인 요소로서 성장할 것으로 예상됩니다.

세계의 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에 대해 조사했으며, 시장의 개요와 용도별, 제품별, 지역별 동향 및 시장에 참여하는 기업의 개요 등을 제공하고 있습니다.

목차

제1장 시장 : 업계의 전망

제2장 용도

제3장 제품

제4장 지역

제5장 시장 - 경쟁 구도와 기업 개요

제6장 성장의 기회와 제안

제7장 조사 방법

KSA
영문 목차

영문목차

“Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Surges Ahead, Unleashing Unprecedented Opportunities for Semiconductor Industry.”

The global Extreme Ultraviolet Lithography market is witnessing substantial growth as semiconductor manufacturers embrace this advanced technology for producing smaller and more powerful microchips. As the demand for more powerful and energy-efficient electronic devices continues to rise, semiconductor companies are investing heavily in Extreme Ultraviolet Lithography to keep pace with the industry's evolving needs.

One of the primary drivers behind the growth of the Extreme Ultraviolet Lithography market is the relentless pursuit of miniaturization in semiconductor manufacturing. With traditional lithography techniques approaching their physical limits, Extreme Ultraviolet Lithography has emerged as a breakthrough technology that enables the fabrication of chips with feature sizes in the nanometer range.

Moreover, collaborations and partnerships within the semiconductor industry are playing a crucial role in driving the growth of the Extreme Ultraviolet Lithography market. Key players in the semiconductor equipment manufacturing sector are forming strategic alliances to accelerate the development and deployment of Extreme Ultraviolet Lithography technology. These collaborations facilitate the sharing of expertise, resources, and research efforts, contributing to the faster integration of this advanced lithography technique into semiconductor fabrication processes. As the industry continues to navigate the complexities of producing advanced microchips, the global market for Extreme Ultraviolet Lithography is expected to grow as an essential component of the semiconductor manufacturing landscape.

Key Market Players and Competition Synopsis

The featured companies have been meticulously chosen, drawing insights from primary experts and thorough evaluations of company coverage, product offerings, and market presence.

Some prominent names established in this market are:

  • ASML
  • Zeiss Group
  • TOPPAN Holdings Inc.
  • NTT Advanced Technology Corporation
  • KLA Corporation
  • Ushio Inc
  • SUSS MicroTec SE
  • AGC Inc.
  • Lasertec Corporation
  • NuFlare Technology Inc.
  • Energetiq Technology, Inc.
  • Photronics, Inc.
  • HOYA Corporation
  • Rigaku Corporation
  • Zygo Corporation

Key Questions Answered:

Table of Contents

1. Markets: Industry Outlook

2. Application

3. Product

4. Region

5. Markets - Competitive Landscape & Company Profiles

6. Growth Opportunities & Recommendations

7. Research Methodology

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